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Paramétrages

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1. WO2005001570 - FORMULATION A FAIBLE VISCOSITE DURCISSABLE PAR RAYONNEMENT DESTINEE NOTAMMENT A LA PRODUCTION STEREOLITHOGRAPHIQUE D'ECOUTEURS

Numéro de publication WO/2005/001570
Date de publication 06.01.2005
N° de la demande internationale PCT/DE2004/001262
Date du dépôt international 17.06.2004
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 14.12.2004
CIB
G03F 7/00 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
G03F 7/027 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
027Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
CPC
B29C 64/135
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
64Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
10Processes of additive manufacturing
106using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
124using layers of liquid which are selectively solidified
129characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
135the energy source being concentrated, e.g. scanning lasers or focused light sources
B33Y 40/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
33ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
YADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
40Auxiliary operations or equipment, e.g. for material handling
B33Y 70/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
33ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
YADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
70Materials specially adapted for additive manufacturing
G03F 7/0037
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
0037Production of three-dimensional images
G03F 7/027
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
Y10S 430/118
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
430Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
1055Radiation sensitive composition or product or process of making
114Initiator containing
118with inhibitor or stabilizer
Déposants
  • DREVE OTOPLASTIK GMBH [DE/DE]; Max-Planck-Strasse 31 59423 Unna, DE (AllExceptUS)
  • KLARE, Martin [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • ALTMANN, Reiner [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • KUTSCHINSKI, Michael [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • MEISSNER, Georgia [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • VEIT, Thomas [DE/DE]; DE (UsOnly)
Inventeurs
  • KLARE, Martin; DE
  • ALTMANN, Reiner; DE
  • KUTSCHINSKI, Michael; DE
  • MEISSNER, Georgia; DE
  • VEIT, Thomas; DE
Mandataires
  • KÖCHLING, Conrad-Joachim; Fleyer Strasse 135 58097 Hagen, DE
Données relatives à la priorité
103 28 302.123.06.2003DE
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) NIEDRIGVISKOSE, STRAHLUNGSHÄRTBARE FORMULIERUNG , INSBESONDERE FÜR DIE STEREOLITHOGRAPHISCHE HERSTELLUNG VON OHRSTÜCKEN
(EN) LOW-VISCOUS, RADIATION CURABLE FORMULATION, PARTICULARLY FOR THE STEREOLITHOGRAPHICAL PRODUCTION OF EARPIECES
(FR) FORMULATION A FAIBLE VISCOSITE DURCISSABLE PAR RAYONNEMENT DESTINEE NOTAMMENT A LA PRODUCTION STEREOLITHOGRAPHIQUE D'ECOUTEURS
Abrégé
(DE)
Die Erfindung beschreibt eine biokompatible, niedrigviskose, strahlungshärtbare Formulierung , insbesondere für die Stereolithographie, zum Einsatz in der Medizintechnik, insbesondere zur Herstellung von Ohrstücken, enthaltend: a) 55-95 Gew.-% eines monomeren oder oligomeren Dimethacrylats auf Basis von Bisphenol A oder Bisphenol F b) 0-20 Gew.-% eines Urethanmethacrylats mit einer Funktionalität von n < 4 und einer Viskosität < 15 Pa s c) 2-15 Gew.-% eines monomeren aliphatischen oder cycloaliphatischen Dimethacrylats mit einer Viskosität < 5 Pa s d) 0-15 Gew.-% eines monofunktionellen Methacrylats mit einer Viskosität < 3 Pa s e) 0,5-6 Gew.-% eines oder einer Kombination mehrere Photoinitiatoren, deren Absorption im Wellenlängenbereich des eingesetzten Laserstrahles liegt f) 0,0001-2 Gew.-% des Inhibitors 2,2,6,6- Tetramethylpiperidin-1-yloxy (freies Radikal), auch in Verbindung mit bekannten Inhibitoren g) 0-40 Gew.-% an Füllstoffen h) 0-5 Gew.-% an Farbpigmenten i) 0-5 Gew.-% an üblichen Additiven wie UV- Stabilisatoren oder Verlaufsadditiven, wobei der Anteil der Komponenten a) bis h) zusammen 100 Gew.-% beträgt.
(EN)
The invention relates to a biocompatible, low-viscous, radiation curable formulation, particularly for use in stereolithography, for use in medical technology, in particular, for producing earpieces, containing: a) 55-95 % by weight of a monomeric or oligomeric dimethacrylate based on bisphenol A or bisphenol F; b) 0-20 % by weight of a urethane methacrylate having a functionality of n < 4 and a viscosity < 15 Pa s; c) 2-15 % by weight of a monomeric aliphatic or cycloaliphatic dimethacrylate having a viscosity < 5 Pa s; d) 0-15 % by weight of a monofunctional methacrylate having a viscosity < 3 Pa s; e) 0.5-6 % by weight of a photoinitiator or a combination of a number of photoinitiators whose absorption is located within the wavelength range of the laser beam used; f) 0.0001- 2 % by weight of the inhibitor 2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yloxy (free radical), also in conjunction with known inhibitors; g) 0-40 % by weight of fillers; h) 0-5 % by weight of coloring pigments; i) 0-5 % by weight of remaining additives such as UV stabilizers or spreading additives, whereby the proportions of constituents a) to h) total 100 % by weight.
(FR)
L'invention concerne une formulation à faible viscosité durcissable par rayonnement biocompatbile destinée notamment à la production stéréolithographique de produits médicaux, notamment d'écouteurs. Cette formulation contient: a) 55-95 % en poids d'un diméthacrylate monomère ou oligomère à base de bisphénol A ou bisphénol F ; b) 0-20 % en poids d'un uréthanméthacrylate ayant une fonction de n < 4 et une viscosité < 15 Pa s ; c) 2-15 % en poids d'un diméthacrylate aliphatique ou cycloaliphatique monomère ayant une viscosité < 5 Pa s ; d) 0-15 % en poids d'un méthacrylate monofonctionnel ayant une viscosité < 3 Pa s ; e) 0,5-6 % en poids d'un ou d'une combinaison de plusieurs photo-initiateurs dont l'absorption se situe dans la plage de longueurs d'ondes du faisceau laser utilisé ; f) 0,0001-2 % en poids de l'inhibiteur 2,2,6,6- tétraméthylpipéridin-1-yloxy (radical libre), même en liaison avec les inhibiteurs connus ; g) 0-40 % en poids de charge ; h) 0-5 % en poids de pigments colorants ; i) 0-5 % en poids d'additifs usuels comme les agents anti-UV ou les agents d'étalement, la fraction des composants a) à h) s'élève à 100 % en poids.
Également publié en tant que
US2006264526
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