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Paramétrages

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1. WO2005001543 - SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION, SYSTEME D'EXPOSITION ET PROCEDE DE PRODUCTION CORRESPONDANT

Numéro de publication WO/2005/001543
Date de publication 06.01.2005
N° de la demande internationale PCT/JP2004/008732
Date du dépôt international 22.06.2004
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G02B 13/24
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
13Optical objectives specially designed for the purposes specified below
24for reproducing or copying at short object distances
G02B 9/64
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
9Optical objectives characterised both by the number of the components and their arrangements according to their sign, i.e. + or -
64having more than six components
G03F 7/70241
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70241Optical aspects of refractive systems
Déposants
  • 株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 〒1008331 東京都千代田区丸の内三丁目2番3号 Tokyo 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331, JP (AllExceptUS)
  • 大村 泰弘 OMURA, Yasuhiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • 大村 泰弘 OMURA, Yasuhiro; JP
Mandataires
  • 山口 孝雄 YAMAGUCHI, Takao; 〒1010048 東京都千代田区神田司町二丁目10番地 第一ビル Tokyo Daiichi Bldg., 10, Kanda-tsukasacho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010048, JP
Données relatives à la priorité
2003-18288526.06.2003JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE SYSTEM, AND DEVICE PRODUCTION METHOD
(FR) SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION, SYSTEME D'EXPOSITION ET PROCEDE DE PRODUCTION CORRESPONDANT
(JA) 投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
Abrégé
(EN)
A small, high-resolution projection optical system which ensures a sufficiently large image-side numerical aperture and a sufficiently large effective imaging area with various aberrations favorably corrected, and which comprises a positive-refractive-power first lens group (G1), a negative-refractive-power second lens group (G2), a positive-refractive-power third lens group (G3), a negative-refractive-power fourth lens group (G4), a positive-refractive-power fifth lens group (G5), and a negative-refractive-power sixth lens group (G6). A first relay system (R12) through a fifth relay system (R56) are disposed respectively between respective lens groups, each relay system including at least one aspherical optical plane.
(FR)
L'invention concerne un système de projection optique à haute résolution de petite taille qui procure une ouverture numérique latérale d'image suffisamment grande et une zone de formation d'image efficace suffisamment grande ainsi que diverses aberrations favorablement corrigées. Ce système comprend un premier groupe de lentilles à réfringence positive (G1), un deuxième groupe de lentilles à réfringence négative (G2), un troisième groupe de lentilles à réfringence positive (G3), un quatrième groupe de lentilles à réfringence négative (G4), un cinquième groupe de lentilles à réfringence positive (G5), et enfin, un sixième groupe de lentilles à réfringence négative (G6). Des système relais, du premier système relais (R12) au cinquième système relais (R56), sont placés respectivement entre les groupes de lentilles, chaque système relais comportant au moins un plan optique asphérique.
(JA)
 十分に大きな像側開口数および十分に広い実効結像領域を確保しつつ、諸収差が良好に補正された小型で高解像の投影光学系。正屈折力の第1レンズ群G1と、負屈折力の第2レンズ群G2と、正屈折力の第3レンズ群G3と、負屈折力の第4レンズ群G4と、正屈折力の第5レンズ群G5と、負屈折力の第6レンズ群G6とを備えている。各レンズ群の間には第1リレー系R12~第5リレー系R56が配置され、各リレー系は少なくとも1つの非球面形状の光学面を含む。
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