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Paramétrages

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1. WO2005001250 - ELECTRODE DE PRODUCTION DE PLASMA ET REACTEUR A PLASMA

Numéro de publication WO/2005/001250
Date de publication 06.01.2005
N° de la demande internationale PCT/JP2004/009014
Date du dépôt international 25.06.2004
CIB
B01D 53/32 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
DSÉPARATION
53Séparation de gaz ou de vapeurs; Récupération de vapeurs de solvants volatils dans les gaz; Épuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p.ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols
32par effets électriques autres que ceux prévus au groupe B01D61/84
B01J 19/08 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
JPROCÉDÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES, p.ex. CATALYSE OU CHIMIE DES COLLOÏDES; APPAREILLAGE APPROPRIÉ
19Procédés chimiques, physiques ou physico-chimiques en général; Appareils appropriés
08Procédés utilisant l'application directe de l'énergie ondulatoire ou électrique, ou un rayonnement particulaire; Appareils à cet usage
F01N 3/08 2006.01
FMÉCANIQUE; ÉCLAIRAGE; CHAUFFAGE; ARMEMENT; SAUTAGE
01"MACHINES" OU MACHINES MOTRICES EN GÉNÉRAL; ENSEMBLES FONCTIONNELS DE MACHINES MOTRICES EN GÉNÉRAL; MACHINES À VAPEUR
NSILENCIEUX OU DISPOSITIFS D'ÉCHAPPEMENT POUR "MACHINES" OU MACHINES MOTRICES EN GÉNÉRAL; SILENCIEUX OU DISPOSITIFS D'ÉCHAPPEMENT POUR MOTEURS À COMBUSTION INTERNE
3Silencieux ou dispositifs d'échappement comportant des moyens pour purifier, rendre inoffensifs ou traiter les gaz d'échappement
08pour rendre les gaz d'échappement inoffensifs
H05H 1/24 2006.01
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
HTECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24Production du plasma
CPC
B01D 2259/818
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
2259Type of treatment
80Employing electric, magnetic, electromagnetic or wave energy, or particle radiation
818Employing electrical discharges or the generation of a plasma
B01D 53/32
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
53Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols,
32by electrical effects other than those provided for in group B01D61/00
B01J 19/088
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
19Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
087employing electric or magnetic energy
088giving rise to electric discharges
B01J 2219/0809
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
2219Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
0803employing electric or magnetic energy
0805giving rise to electric discharges
0807involving electrodes
0809employing two or more electrodes
B01J 2219/0835
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
2219Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
0803employing electric or magnetic energy
0805giving rise to electric discharges
0807involving electrodes
0824Details relating to the shape of the electrodes
0835substantially flat
B01J 2219/0875
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
2219Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
0873Materials to be treated
0875Gas
Déposants
  • 日本碍子株式会社 NGK INSULATORS, LTD. [JP/JP]; 〒4678530 愛知県名古屋市瑞穂区須田町2番56号 Aichi 2-56, Suda-cho, Mizuho-ku, Nagoya-shi, Aichi 4678530, JP (AllExceptUS)
  • 本田技研工業株式会社 HONDA MOTOR CO., LTD. [JP/JP]; 〒1078556 東京都港区南青山二丁目1番1号 Tokyo 1-1, Minami-Aoyama 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1078556, JP (AllExceptUS)
  • 宮入 由紀夫 MIYAIRI, Yukio [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 藤岡 靖昌 FUJIOKA, Yasumasa [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 桝田 昌明 MASUDA, Masaaki [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 佐久間 健 SAKUMA, Takeshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 波多野 達彦 HATANO, Tatsuhiko [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 佐藤 祥弘 SATO, Yoshihiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 鈴木 純一 SUZUKI, Junichi [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • 宮入 由紀夫 MIYAIRI, Yukio; JP
  • 藤岡 靖昌 FUJIOKA, Yasumasa; JP
  • 桝田 昌明 MASUDA, Masaaki; JP
  • 佐久間 健 SAKUMA, Takeshi; JP
  • 波多野 達彦 HATANO, Tatsuhiko; JP
  • 佐藤 祥弘 SATO, Yoshihiro; JP
  • 鈴木 純一 SUZUKI, Junichi; JP
Mandataires
  • 渡邉 一平 WATANABE, Kazuhira; 〒1110053 東京都台東区浅草橋3丁目20番18号 第8菊星タワービル3階 Tokyo 3rd Fl., No.8 Kikuboshi Tower Building, 20-18, Asakusabashi 3-chome, Taito-ku, Tokyo 1110053, JP
Données relatives à la priorité
2003-18409227.06.2003JP
2003-36988630.10.2003JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) PLASMA GENERATING ELECTRODE AND PLASMA REACTOR
(FR) ELECTRODE DE PRODUCTION DE PLASMA ET REACTEUR A PLASMA
(JA) プラズマ発生電極及びプラズマ反応器
Abrégé
(EN)
A plasma generating electrode having a pair of unit electrodes (2). Each of the unit electrodes (2) is formed of a ceramic sheet (19) and a conductive film (12) arranged inside the ceramic sheet (19). On one side of each unit electrode (2) a plurality of ridges (13) are arranged. A basic unit (1) is constituted of the paired unit electrodes (2) which are stacked hierarchically with a gap corresponding to the height of the ridges (13) in such a way as to define a plurality of spaces opened at their both ends in the arrangement direction of the ridges (13). A plurality of such basic units (1) are so stacked hierarchically with a gap corresponding to the height of the ridges (13) as to constitute an electrode unit. By applying a voltage between the unit electrodes (2) constituting the electrode unit, plasma can be generated in the spaces (V) arranged three-dimensionally. Therefore, the plasma generating device can generate uniform and stable plasma and has an excellent heat resistance.
(FR)
L'invention concerne une électrode de production de plasma comportant une paire d'électrodes d'unités (2). Chaque électrode d'unités (2) est composée d'une feuille céramique (19) et d'une pellicule conductrice (12) disposée à l'intérieur de la feuille céramique (19). Un côté des électrodes d'unités (2) comporte une pluralité d'arêtes (13). Une unité de base (1) est composée des électrodes d'unités appariées (2) empilées de façon hiérarchique avec un écart correspondant à la hauteur des arêtes (13) de manière à définir une pluralité d'espaces ouverts sur leurs deux extrémités dans la direction de disposition des arêtes (13). Une pluralité d'unités de base (1) est empilée hiérarchiquement avec un écart correspondant à la hauteur des arêtes (13) de manière à constituer une unité d'électrodes. L'application d'une tension entre les électrodes d'unités (2) permet de produire un plasma dans les espaces (V) disposés de façon tridimensionnelle. Ainsi, le dispositif de production de plasma permet de produire un plasma uniforme et stable et présente une excellente résistance thermique.
(JA)
 本発明のプラズマ発生電極は、一対の単位電極2のそれぞれが、板状のセラミック体19と、前記セラミック体の内部に配設された導電膜12から形成されるとともにそれぞれの一の表面に複数の突条13を有し、その一対の単位電極2が、突条13の配設方向の両端が開放された複数の空間を形成した状態で突条13の厚さに相当する間隔を隔てて階層的に積層されて一つの基本ユニット1を構成し、さらに基本ユニット1の複数が、突条13の厚さに相当する間隔を隔てて階層的に積層された電極ユニットを構成し、電極ユニットを構成する単位電極2間に電圧を印加することによって、立体的に配列された空間V内にプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生電極である。このため、均一かつ安定なプラズマを発生させることが可能であるとともに、耐熱性に優れている。
Également publié en tant que
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