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Paramétrages

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1. WO2005000923 - POLYMERES DE RESINE PHOTOSENSIBLE ET COMPOSITIONS CONTENANT UNE RESINE POLYMERIQUE A BASE ACRYLIQUE OU METHACRYLIQUE PREPAREE PAR UN PROCESSUS RADICALAIRE VIVANT

Numéro de publication WO/2005/000923
Date de publication 06.01.2005
N° de la demande internationale PCT/US2004/020346
Date du dépôt international 25.06.2004
CIB
C08F 20/18 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
08COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
FCOMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
20Homopolymères ou copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, imide ou nitrile
02Acides monocarboxyliques contenant moins de dix atomes de carbone; Leurs dérivés
10Esters
12des alcools ou des phénols monohydriques
16des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone
18avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
G03F 7/039 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
039Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
CPC
C08F 20/18
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
20Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
10Esters
12of monohydric alcohols or phenols
16of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
18with acrylic or methacrylic acids
G03F 7/0397
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
0392the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition
0397the macromolecular compound having an alicyclic moiety in a side chain
Déposants
  • SYMYX TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 3100 Central Expressway Santa Clara, CA 95051, US (AllExceptUS)
  • BENOIT, Didier [FR/US]; US (UsOnly)
  • SAFIR, Adam [US/US]; US (UsOnly)
  • CHANG, Han-Ting [--/US]; US (UsOnly)
  • CHARMOT, Dominique [FR/US]; US (UsOnly)
Inventeurs
  • BENOIT, Didier; US
  • SAFIR, Adam; US
  • CHANG, Han-Ting; US
  • CHARMOT, Dominique; US
Mandataires
  • ROTHENBERGER, Scott, D. ; Dorsey & Whitney LLP Intellectual Property Department Suite 1500 50 South Sixth Street Minneapolis, MN 55402-1498, US
Données relatives à la priorité
60/483,31026.06.2003US
60/483,39026.06.2003US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) PHOTORESIST POLYMERS AND COMPOSITIONS HAVING ACRYLIC- OR METHACRYLIC-BASED POLYMERIC RESIN PREPARED BY A LIVING FREE RADICAL PROCESS
(FR) POLYMERES DE RESINE PHOTOSENSIBLE ET COMPOSITIONS CONTENANT UNE RESINE POLYMERIQUE A BASE ACRYLIQUE OU METHACRYLIQUE PREPAREE PAR UN PROCESSUS RADICALAIRE VIVANT
Abrégé
(EN)
The present invention is directed to the preparation of photoresist polymers via living free radical polymerization techniques. Sterically bulky ester monomers are utilized as the polymerization components. Use of chain transfer agents is included in polymerization processing conditions. Cleavage of polymer terminal end groups that include a heteroatom are described.
(FR)
La présente invention concerne la préparation de polymères de résine photosensible par des techniques de polymérisation radicalaire vivante. Des monomères d'esters stériquement encombrants sont utilisés comme composants de polymérisation. L'utilisation d'agents de transfert de chaîne est comprise dans des conditions de traitement de polymérisation. Cette invention concerne également le clivage de groupes terminaux polymères contenant un hétéroatome.
Également publié en tant que
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