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1. (WO2004102710) PLAQUES A CHAMP D'ECOULEMENT SYMETRIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/102710    N° de la demande internationale :    PCT/CA2004/000721
Date de publication : 25.11.2004 Date de dépôt international : 14.05.2004
CIB :
H01M 4/86 (2006.01), H01M 8/02 (2006.01), H01M 8/24 (2006.01)
Déposants : HYDROGENICS CORPORATION [CA/CA]; 5985 McLaughlin Road, Mississauga, Ontario L5R 1B8 (CA) (Tous Sauf US).
JOOS, Nathaniel, Ian [CA/CA]; (CA) (US Seulement)
Inventeurs : JOOS, Nathaniel, Ian; (CA)
Mandataire : BERESKIN & Parr; 40 King Street West, 40th Floor, Toronto, Ontario M5H 3Y2 (CA)
Données relatives à la priorité :
60/470,869 16.05.2003 US
Titre (EN) SYMMETRICAL FLOW FIELD PLATES
(FR) PLAQUES A CHAMP D'ECOULEMENT SYMETRIQUES
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to the design of flow field plates suited for use in electrochemical cells. According to aspects of some embodiments of the invention a true single plate bipolar flow field plate is provided. Moreover, according to other aspects of some embodiments of the invention active surfaces corresponding to an anode and a cathode, respectively, are substantially identical to one another, whereas in other embodiments the respective active surfaces are identical to one another after a transformation such as a reflection or 180 degree rotation.
(FR)La présente invention concerne la conception de plaques à champ d'écoulement adaptées pour être utilisées dans des cellules électrochimiques. Selon des aspects de certains modes de réalisation, la présente invention concerne une plaque à champ d'écoulement bipolaire sous forme de plaque unique. De plus, selon d'autres aspects de certains modes de réalisation, des surfaces actives correspondant respectivement à une anode et à une cathode sont pratiquement identiques l'une à l'autre, tandis que dans d'autres modes de réalisation, les surfaces actives respectives sont identiques l'une à l'autre après une transformation telle qu'une réflexion ou une rotation de 180 degrés.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)