WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2004102637) STRUCTURES DE DISPOSITIFS MICRO-USINES PRESENTANT DES ORIENTATIONS AXEES ET HORS-AXE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/102637    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/013105
Date de publication : 25.11.2004 Date de dépôt international : 27.04.2004
CIB :
B81C 99/00 (2010.01), G01C 19/56 (2006.01), G01P 15/125 (2006.01)
Déposants : ANALOG DEVICES, INC. [US/US]; P.O. Box 9106, One Technology Way, Norwood, MA 02062-9106 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : GEEN, John, A.; (US)
Mandataire : LEBOVICI, Victor, B.; Weingarten, Schurgin, Gagnebin & Lebovici, LLP, Ten Post Office Square, Boston, MA 02109 (US)
Données relatives à la priorité :
60/466,082 28.04.2003 US
10/463,652 17.06.2003 US
Titre (EN) MICRO-MACHINED DEVICE STRUCTURES HAVING ON AND OFF-AXIS ORIENTATIONS
(FR) STRUCTURES DE DISPOSITIFS MICRO-USINES PRESENTANT DES ORIENTATIONS AXEES ET HORS-AXE
Abrégé : front page image
(EN)A micro-machined multi-sensor that provides 1-axis of acceleration sensing and 2-axes of angular rate sensing. A method of fabricating the micro-machined multi-sensor includes depositing a layer of sacrificial material or structural material onto the substrate surface. The deposited layer of sacrificial or structural material is then masked with a predetermined mask pattern formed using a rectilinear grid having multiple horizontal and vertical spacings. The mask pattern defines the functional components of the sensor device. In the event the multi-sensor includes at least one functional component whose alignment on the substrate is critical to the optimal performance of the sensor, the critical component is defined so that its longitudinal axis is substantially parallel to the horizontal or vertical axis of the mask. In the event the multi-sensor includes at least one functional component whose alignment on the substrate surface is not critical to optimal sensor performance, the non-critical component may be defined so that its longitudinal axis is not parallel to the horizontal and vertical axes of the mask.
(FR)L'invention concerne un multi-capteur micro-usiné qui fournit 1 axe de capteurs d'accélération et 2 axes de capteurs de vitesse angulaire. L'invention concerne un procédé de fabrication du multi-capteur qui consiste notamment à déposer une couche de matériau sacrificiel ou de matériau structurel sur la surface du substrat. Ladite couche déposée est ensuite masquée par un motif de masque prédéterminé formé au moyen d'une grille rectiligne présentant de multiples espacements horizontaux et verticaux. Le motif de masque définit les composants fonctionnels du dispositif capteur. Dans le cas où le multi-capteur comporte au moins un composant fonctionnel dont l'alignement sur le substrat est critique pour la performance optimale du capteur, le composant critique est défini de façon que son axe longitudinal soit sensiblement parallèle à l'axe horizontal ou vertical du masque. Si le multi-capteur comporte au moins un composant fonctionnel dont l'alignement sur la surface du substrat est non critique pour la performance optimale du capteur, le composant non critique peut être défini de façon que son axe longitudinal ne soit pas parallèle aux axes horizontal et vertical du masque.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)