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1. (WO2004102627) PROCEDE ET DISPOSITIF POUR EFFACEMENT D'IMAGES RADIOGRAPHIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/102627    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/014603
Date de publication : 25.11.2004 Date de dépôt international : 10.05.2004
CIB :
B65H 7/00 (2006.01), G01N 23/04 (2006.01)
Déposants : ALARA, INC.; 2545 Barrington Court, Hayward, CA 94545 (US) (Tous Sauf US).
SMITH, Jerel [US/US]; (US) (US Seulement).
MITCHELL, Christopher, R. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : SMITH, Jerel; (US).
MITCHELL, Christopher, R.; (US)
Mandataire : TUNG, Hao, Y.; Heller Ehrman White & McAuliffe LLP, 275 Middlefield Road, Menlo Park, CA 94025-3506 (US)
Données relatives à la priorité :
60/469,465 08.05.2003 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR RADIATION IMAGE ERASURE
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF POUR EFFACEMENT D'IMAGES RADIOGRAPHIQUES
Abrégé : front page image
(EN)Methods and device are provided for improved storage screen erasure. A storage screen erasure device comprises a first wavelength source and a second wavelength source. The first wavelength may be selected to pump signal on the screen to be more easily erased by said second wavelength source. The sources may direct energy sequentially onto the screen, it may occur simultaneously, or any combination of the two.
(FR)Cette invention concerne des procédés et un dispositifs permettant d'obtenir un effacement amélioré d'un écran de stockage. Un dispositif d'effacement d'écran de stockage comprend une première source de longueur d'onde et une seconde source de longueur d'onde. La première longueur d'onde peut être sélectionnée dans le but de pomper sur l'écran un signal qui soit plus facilement effaçable par la seconde source de longueur d'onde. Les sources peuvent diriger l'énergie selon un mode séquentiel, simultané ou selon une combinaison quelconque des deux.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)