WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2004102278) PROCEDE MIS EN OEUVRE PAR UN ORDINATEUR ET SUPPORT CONFIGURE DE MANIERE A GENERER UN ENSEMBLE DE PARAMETRES DE TRAITEMENT ET/OU UNE LISTE DE CAUSES POTENTIELLES DE DEVIATIONS POUR UN PROCEDE DE LITHOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/102278    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/014212
Date de publication : 25.11.2004 Date de dépôt international : 07.05.2004
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : KLA-TENCOR TECHNOLOGIES CORP. [US/US]; One Technology Drive, Milpitas, CA 95035 (US) (Tous Sauf US).
MACK, Chris [US/US]; (US) (US Seulement).
JONES, Robert [US/US]; (US) (US Seulement).
BYERS, Jeffrey [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : MACK, Chris; (US).
JONES, Robert; (US).
BYERS, Jeffrey; (US)
Mandataire : MEWHERTER, Ann Marie; Conley Rose, P.C., P.O. Box 684908, Austin, TX 78768-4908 (US)
Données relatives à la priorité :
10/431,133 07.05.2003 US
Titre (EN) COMPUTER-IMPLEMENTED METHOD AND CARRIER MEDIUM CONFIGURED TO GENERATE A SET OF PROCESS PARAMETERS AND/OR A LIST OF POTENTIAL CAUSES OF DEVIATIONS FOR A LITHOGRAPHY PROCESS
(FR) PROCEDE MIS EN OEUVRE PAR UN ORDINATEUR ET SUPPORT CONFIGURE DE MANIERE A GENERER UN ENSEMBLE DE PARAMETRES DE TRAITEMENT ET/OU UNE LISTE DE CAUSES POTENTIELLES DE DEVIATIONS POUR UN PROCEDE DE LITHOGRAPHIE
Abrégé : front page image
(EN)A computer-implemented method and a carrier medium adapted to improve lithographic processes are provided. In some embodiments, the computer-implemented method and carrier medium may be used for identifying potential causes of lithography process failure or drift. In addition or alternatively, the computer-implemented method and carrier medium may be adapted to generate a set of process parameter values for a lithography process based upon both critical dimension and overlay effect analyses of process parameter value variations. In some cases, the set of process parameter values may be selected to collectively minimize the number critical dimension and overlay variation errors produced within an image fabricated from the lithography process.
(FR)L'invention concerne un procédé mis en oeuvre par un ordinateur et un support conçu pour améliorer les procédés lithographiques. Dans certains modes de réalisation, le procédé et le support peuvent être utilisés pour identifier les causes potentielles de pannes ou de déphasages d'un procédé lithographique. Par ailleurs ou selon une variante, le procédé et le support peuvent être conçus pour générer un ensemble de valeurs de paramètres de traitement pour un procédé lithographique d'après la dimension critique et les analyses d'effet de superposition des variations de valeurs de paramètres de traitement. Dans certains cas, l'ensemble de valeurs de paramètres de traitement peut être sélectionné pour minimiser collectivement la dimension critique et les erreurs de variations de superposition que l'on trouve dans une image fabriquée à partir d'un procédé lithographique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)