WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2004102272) COMPOSITION DE RESINE PHOTOSENSIBLE POUR L'ULTRAVIOLET PROFOND ET PROCEDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/102272    N° de la demande internationale :    PCT/EP2004/004867
Date de publication : 25.11.2004 Date de dépôt international : 07.05.2004
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    08.12.2004    
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP. [US/US]; 70 Meister Avenue, Somerville, NJ 8876 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : LEE, Sangho; (US).
RAHMAN, Dalil, M.; (US).
MCKENZIE, Douglas; (US).
KIM, Woo-Kyu; (US).
PADMANABAN, Munirathna; (US).
OBERLANDER, Joseph, E.; (US).
TOUKHY, Medhat, A.; (US)
Mandataire : ISENBRUCK, Günter; Isenbruck, Bösl, Hörschler, Wichmann, Huhn, Theodor-Heuss-Anlage 12, 68165 Mannheim (DE)
Données relatives à la priorité :
10/440,542 16.05.2003 US
Titre (EN) PHOTORESIST COMPOSITION FOR DEEP UV AND IMAGING PROCESS THEREOF
(FR) COMPOSITION DE RESINE PHOTOSENSIBLE POUR L'ULTRAVIOLET PROFOND ET PROCEDE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a novel photoresist composition sensitive to radiation in the deep ultraviolet, particularly a positive working photoresist sensitive in the range of 100-300 nm, and a process for using it. The photoresist composition comprises: a) a polymer that is insoluble in an aqueous alkaline solution and comprises at least one acid labile group, and further where the polymer comprises at least one alicyclic hydrocarbon unit, at least one cyclic anhydride, at least one acrylate unit with the structure (1), and at least one acrylate unit with structure (2): where, R’ and R are independently H or (C1-C4)alkyl; R1 is a pendant cyclic lactone, and, R2 is a pendant nonlactone aliphatic hydrocarbon moiety, b) a compound or a mixture of compounds capable of producing acid upon irradiation. The invention further relates to the use of a solvent comprising valerolactone as a solvent for photosensitive materials. Preferably, the solvent is gamma valerolactone. The solvent may be in a mixture with another photoresist solvent or solvents.
(FR)La présente invention concerne une nouvelle composition de résine photosensible sensible au rayonnement dans l'ultraviolet profond, en particulier une résine photosensible positive sensible dans la plage de 100 à 300 nm, ainsi qu'un procédé d'utilisation de ladite résine. Cette composition de résine photosensible comprend : a) un polymère insoluble dans une solution alcaline aqueuse et présentant au moins un groupe labile acide, lequel polymère comprend également au moins une unité hydrocarbure alicyclique, au moins un anhydride cyclique, au moins une unité acrylate de structure (1) et au moins une unité acrylate de structure (2), structures dans lesquelles R et R' représentent indépendamment H ou (C1-C4)alkyle ; R1 est une lactone cyclique latérale et R2 et une fraction hydrocarbure aliphatique non lactone latérale, et b) un composé ou un mélange de composés pouvant produire de l'acide sous irradiation. Ladite invention concerne également l'utilisation d'un solvant à base de valérolactone en tant que solvant pour matières photosensibles. De préférence, ce solvant est la gamma-valérolactone. Ledit solvant peut être mélangé à un ou plusieurs autres solvants pour résine photosensible.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)