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1. WO2004102224 - SYSTEME AXICONIQUE ET SYSTEME D'ECLAIRAGE EQUIPE DE CE DERNIER

Numéro de publication WO/2004/102224
Date de publication 25.11.2004
N° de la demande internationale PCT/EP2004/004874
Date du dépôt international 07.05.2004
CIB
G02B 5/04 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5Eléments optiques autres que les lentilles
04Prismes
G02B 13/14 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
13Objectifs optiques spécialement conçus pour les emplois spécifiés ci-dessous
14à utiliser avec des radiations infrarouges ou ultraviolettes
G02B 27/09 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
27Systèmes ou appareils optiques non prévus dans aucun des groupes G02B1/-G02B26/117
09Mise en forme du faisceau, p.ex. changement de la section transversale, non prévue ailleurs
G02B 27/28 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
27Systèmes ou appareils optiques non prévus dans aucun des groupes G02B1/-G02B26/117
28pour polariser
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G02B 5/001
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
001Axicons, waxicons, reflaxicons
G03F 7/70108
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70091Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane, angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole, quadrupole; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
70108Off-axis setting using a light-guiding element
G03F 7/70125
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70125Use of illumination settings tailored to particular mask patterns
G03F 7/70566
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70483Information management, control, testing, and wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
7055Exposure light control, in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control, light interruption
70566Polarisation control
Déposants
  • CARL ZEISS SMT AG [DE]/[DE] (AllExceptUS)
  • DEGÜNTHER, Markus [DE]/[DE] (UsOnly)
  • BROTSACK, Markus [DE]/[DE] (UsOnly)
Inventeurs
  • DEGÜNTHER, Markus
  • BROTSACK, Markus
Mandataires
  • RUFF, WILHELM, BEIER, DAUSTER UND PARTNER
Données relatives à la priorité
103 22 376.213.05.2003DE
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) AXICONSYSTEM UND BELEUCHTUNGSSYSTEM DAMIT
(EN) AXICON SYSTEM AND EXPOSURE SYSTEM EQUIPPED WITH THE SAME
(FR) SYSTEME AXICONIQUE ET SYSTEME D'ECLAIRAGE EQUIPE DE CE DERNIER
Abrégé
(DE)
Ein Axiconsystem, das beispielsweise in einem Beleuchtungssystem für eine Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage verwendet werden kann, dient zur Umformung einer auf seine Eintrittsfläche auftreffenden Eintrittslichtverteilung in eine aus seiner Austrittsfläche austretende Austrittslichtverteilung durch radiale Umverteilung von Lichtintensität. Bei einer Ausführungsform hat das Axiconsystem eine optische Achse und ein Axiconelement mit einer ersten Axiconfläche und einer der Axiconfläche gegenüber liegenden weiteren Fläche. Mindestens eine der Flächen ist mit einer optischen Kompensationsbeschichtung belegt, die durch eine elliptische Transmissionsfunktion eine ortsabhängige Kompensation von durch polarisationsselektive Reflexion und Transmission an der Axiconfläche bedingten Transmissionsinhomogenitäten des Axiconsystems bewirkt.
(EN)
The invention relates to an axicon system that can be used, for example, in an exposure system for a microlithographic projection-exposure installation. Said system re-shapes an incident light distribution, which strikes its incident surface, into an exit light distribution that emerges from its exit surface by radially re-distributing the light intensity. In one embodiment, the axicon system comprises an optical axis and an axicon element with a first axicon surface and an additional surface lying opposite said axicon surface. At least one of the surfaces is coated with an optical compensation layer, which uses an elliptical transmission function to induce a location-dependent compensation of transmission irregularities on the axicon surface, said irregularities being caused by polarisation-selective reflection and transmission.
(FR)
L'invention concerne un système axiconique, pouvant être utilisé par exemple dans un système d'éclairage destiné à une installation d'exposition par projection dans le domaine de la microlithographie. Ce système sert à transformer une répartition de lumière incidente frappant sa surface d'entrée en une répartition de lumière de sortie sortant de sa surface de sortie, par redistribution radiale de l'intensité lumineuse. Dans un mode de réalisation, ce système axiconique présente un axe optique et un élément axiconique comportant une première surface axiconique et une autre surface située en face de cette dernière. Au moins une des surfaces est recouverte d'un revêtement de compensation optique qui provoque, par l'intermédiaire d'une fonction de transmission elliptique, une compensation, dépendante de l'emplacement, d'hétérogénéités de transmission conditionnées par la réflexion et la transmission, qui sont fonction de la polarisation, au niveau de la surface axiconique.
Également publié en tant que
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