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1. (WO2004101334) PROCEDE ET DISPOSITIF DE COMMANDE D'ESSUIE-GLACE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/101334    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/006815
Date de publication : 25.11.2004 Date de dépôt international : 13.05.2004
CIB :
B60S 1/08 (2006.01), G01N 21/15 (2006.01)
Déposants : NILES CO.,LTD. [JP/JP]; 28-6, Omorinishi 5-chome, Ota-ku, Tokyo, 143-8521 (JP) (Tous Sauf US).
KOKURYO, Kazuto [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MAKINO, Yoshiteru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
FURUSAWA, Satoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KOKURYO, Kazuto; (JP).
MAKINO, Yoshiteru; (JP).
FURUSAWA, Satoshi; (JP)
Mandataire : IWASA, Yoshiyuki; SUGIMURA INTERNATIONAL PATENT AND TRADE MARK AGENCY BUREAU Kazan Building 2-4, Kasumigaseki 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-0013 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-136897 15.05.2003 JP
Titre (EN) METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING WIPER
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE COMMANDE D'ESSUIE-GLACE
(JA) ワイパー制御方法、およびワイパー制御装置
Abrégé : front page image
(EN)A method and device for controlling a wiper, capable of stabilizing a wiping rhythm of a wiper while performing required wiping effect and capable of smoothly dealing with a change in rainfall conditions. The method of controlling a wiper has a step of detecting an adhesion cycle of raindrops adhering on a detection surface; determining, based on the detected raindrop adhesion cycle, a current adhesion cycle that is the base for determining interval time of the wiper; determining interval time based on the current adhesion cycle; detecting a raindrop adhesion cycle shorter than the current adhesion cycle; changing the current adhesion cycle, when a raindrop adhesion cycle shorter than the current adhesion cycle is detected for a predetermined number of times, to a shorter adhesion cycle; and determining interval time of the wiper based on the changed current adhesion cycle.
(FR)L'invention concerne un procédé et un dispositif destinés à commander un essuie-glace et permettant de stabiliser un rythme d'essuyage d'un essuie-glace tout en produisant un effet d'essuyage requis et de s'adapter progressivement à un changement de conditions de pluie. Le procédé de commande d'essuie-glace consiste à détecter un cycle d'adhésion de gouttes de pluie adhérant sur une surface de détection, à déterminer, sur la base du cycle d'adhésion de gouttes de pluie détecté, un cycle d'adhésion en cours servant de base pour la détermination du temps d'intervalle de l'essuie-glace, à détecter un cycle d'adhésion de gouttes de pluie plus court que le cycle d'adhésion en cours, à modifier le cycle d'adhésion en cours, lorsqu'un cycle d'adhésion de gouttes de pluie plus court que le cycle d'adhésion en cours est détecté un nombre prédéterminé de fois, de sorte à obtenir un cycle d'adhésion plus court, puis à déterminer un temps d'intervalle de l'essuie-glace sur la base du cycle d'adhésion en cours modifié.
(JA)必要な払拭を得ながらワイパーの払拭リズムを安定させ、降雨状況の変化にスムーズに対応することができるワイパー制御方法、およびワイパー制御装置を提供する。 検知面に付着した雨滴の付着周期を検出し、ワイパーの間欠時間を決定する際の基本となるカレント付着周期を、検出した雨滴の付着周期に基づいて決定し、カレント付着周期に基づいて、ワイパーの間欠時間を決定し、カレント付着周期よりも短い雨滴の付着周期を検出し、カレント付着周期よりも短い雨滴の付着周期が所定回数検出された場合に、カレント付着周期を、より短い付着周期に変更し、変更されたカレント付着周期に基づいてワイパーの間欠時間を決定する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)