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1. (WO2004100236) SYSTEME OPTIQUE D'ECLAIRAGE, DISPOSITIF DE PROJECTION/EXPOSITION, PROCEDE DE FABRICATION D'UN MICRO-DISPOSITIF ET D'UN DISPOSITIF D'ECLAIRAGE, PROCEDE DE FABRICATION ET PROCEDE DE REGLAGE DU DISPOSITIF DE PROJECTION/EXPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/100236    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/006416
Date de publication : 18.11.2004 Date de dépôt international : 06.05.2004
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G21K 1/06 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-Chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
SUZUKI, Kenji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SUZUKI, Kenji; (JP)
Mandataire : FURUYA, Fumio; Dai2 Meiho Bldg. 9th Floor, 19-5, Nishishinjuku 1-Chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-131440 09.05.2003 JP
Titre (EN) ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION/EXPOSURE DEVICE, MICRO DEVICE MANUFACTURING METHOD, ILLUMINATION DEVICE MANUFACTURING METHOD, PROJECTION/EXPOSURE DEVICE ADJUSTMENT METHOD, AND PROJECTION/EXPOSURE DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SYSTEME OPTIQUE D'ECLAIRAGE, DISPOSITIF DE PROJECTION/EXPOSITION, PROCEDE DE FABRICATION D'UN MICRO-DISPOSITIF ET D'UN DISPOSITIF D'ECLAIRAGE, PROCEDE DE FABRICATION ET PROCEDE DE REGLAGE DU DISPOSITIF DE PROJECTION/EXPOSITION
(JA) 照明光学系、投影露光装置、マイクロデバイスの製造方法、照明装置の製造方法、投影露光装置の調整方法、及び投影露光装置の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)It is possible to reduce the slightest illumination irregularities generated after assembling an optical system. For this, an illumination optical system includes a light source (11) emitting extreme ultra-violet light, a collimator (12), a Fly’s eye mirror (13), and a capacitor (14) which are successively arranged. A predetermined illumination area in the emission side of the capacitor (14) is subjected to Köhler illumination. At least one of the unit mirrors constituting the Fly’s eye mirror (13) is a correction mirror having reflectivity irregularities for correcting a part or all of the illumination irregularities in the aforementioned illumination area.
(FR)Selon cette invention, il est possible de réduire les irrégularités d'éclairage les plus banales générées après l'assemblage d'un système optique. Pour cela, le système optique d'éclairage comprend une source de lumière (11) émettant une lumière dans l'extrême ultraviolet, un collimateur (12), un miroir à effet « oeil de mouche » (13) et un condensateur (14) disposés les uns à la suite des autres. Une zone d'éclairage prédéterminée dans le côté émission du condensateur (14) est soumise à l'éclairage de Köhler. Au moins un des miroirs constituant le miroir à effet « oeil de mouche » (13) est un miroir de correction ayant des irrégularités de réflectivité permettant de corriger tout ou partie de ces irrégularités dans la zone d'éclairage précitée.
(JA)本発明は、光学系の組み立て後に生じる僅かな照明ムラまでも低減することを目的とする。そのために、本発明の照明光学系は、極端紫外光を出射する光源(11)、コリメータ(12)、フライアイミラー(13)、及びコンデンサ(14)を順に配置し、そのコンデンサ(14)の射出側における所定の照明領域をケーラー照明する照明光学系において、前記フライアイミラー(13)を構成する複数の単位ミラーのうち少なくとも一つを、前記照明領域の照明ムラの一部又は全部を補正するための反射率ムラを有した補正ミラーとする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)