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1. (WO2004100208) PLAQUE TEMOIN POUR DESORPTION LASER ASSISTEE PAR MATRICE ET SPECTROMETRIE DE MASSE D'IONISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/100208    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/013709
Date de publication : 18.11.2004 Date de dépôt international : 30.04.2004
CIB :
H01J 49/04 (2006.01)
Déposants : PERKINELMER LIFE AND ANALYTICAL SCIENCES [US/US]; 549 Albany Street, Boston, MA 02118 (US) (Tous Sauf US).
DICESARE, Joseph, L. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : DICESARE, Joseph, L.; (US)
Mandataire : WHITMYER, Wesley, W., Jr.; St. Onge Steward Johnston & Reens LLC, 986 Bedford Street, Stamford, CT 06905-5619 (US)
Données relatives à la priorité :
10/426,599 30.04.2003 US
Titre (EN) SAMPLE PLATE FOR MATRIX-ASSISTED LASER DESORPTION AND IONIZATION MASS SPECTROMETRY
(FR) PLAQUE TEMOIN POUR DESORPTION LASER ASSISTEE PAR MATRICE ET SPECTROMETRIE DE MASSE D'IONISATION
Abrégé : front page image
(EN)A sample plate for mass spectrometric analysis of a specimen is provided comprising a substrate having an electrically conductive surface, a mask applied to the electrically conductive surface. The mask is applied to the substrate with a rough surface to form at least one sample site. The sample site comprises a central portion formed from the electrically conductive surface and a marginal portion formed from the mask where the marginal portion is more hydrophobic than the central portion.
(FR)L'invention concerne une plaque témoin pour l'analyse spectrométrique de masse d'un spécimen. Ladite plaque témoin comprend un substrat possédant une surface conductrice d'électricité et un masque appliqué sur ladite surface. Le masque est appliqué sur le substrat pourvu d'une surface rugueuse pour former au moins un site témoin. Ce site témoin comporte une portion centrale formée à partir de la surface conductrice d'électricité et une portion marginale formée à partir dudit masque, la portion marginale étant plus hydrophobe que la portion centrale.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)