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1. (WO2004099874) SYSTEME ET PROCEDE DECISIONNEL POUR MOTIFS, PROCEDE DE FABRICATION DE MASQUES, PROCEDE D'AJUSTEMENT DES PERFORMANCES, PROCEDE ET DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROGRAMME ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/099874    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/005481
Date de publication : 18.11.2004 Date de dépôt international : 16.04.2004
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
HIRUKAWA, Shigeru [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HIRUKAWA, Shigeru; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; Tateishi & Co. Karakida Center Bldg. 1-53-9, Karakida Tama-shi, Tokyo 206-0035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-111072 16.04.2003 JP
Titre (EN) PATTERN DECISION METHOD AND SYSTEM, MASK MANUFACTURING METHOD, FOCUSING PERFORMANCE ADJUSTING METHOD, EXPOSURE METHOD AND DEVICE, PROGRAM, AND INFORMATION RECORDING MEDIUM
(FR) SYSTEME ET PROCEDE DECISIONNEL POUR MOTIFS, PROCEDE DE FABRICATION DE MASQUES, PROCEDE D'AJUSTEMENT DES PERFORMANCES, PROCEDE ET DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROGRAMME ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS
(JA) パターン決定方法及びシステム、マスクの製造方法、結像性能調整方法、露光方法及び装置、並びにプログラム及び情報記録媒体
Abrégé : front page image
(EN)According to adjustment information on the adjusting device under a predetermined exposure condition, information on the corresponding focusing performance of the projection optical system, pattern correction information, focusing performance allowance range information, and the like, an appropriate adjustment amount under the target exposure condition where the pattern has been corrected is calculated for each of exposure devices (steps 114 to 118). As a result of adjustment of the adjusting device following the appropriate adjustment amount of each exposure device calculated, if at least one exposure device has a focusing performance out of the allowance range under the target exposure condition, the correction information is set according to a predetermined reference based on the focusing performance (steps 120, 124, 126). The aforementioned steps 114 to 118, 120, 124, and 126 are repeated until all the devices have the focusing performance within the allowance range. When all are in the allowance range, the correction information which has been set is decided as pattern correction information (step 138).
(FR)Conformément à des informations d'ajustement sur le dispositif de réglage en conditions d'exposition prédéterminées, à des informations sur les performances de mise au point correspondantes du système optique de projection, à des informations de correction de motifs, à des informations sur la plage autorisée des caractéristiques de mis au point, etc., on calcule pour chacun des dispositifs d'exposition (opérations 114 à 118) une valeur de réglage appropriée en conditions d'exposition recherchées là où le motif a été corrigé. Par suite du réglage du dispositif de réglage conformément à la valeur de réglage appropriée de chaque dispositif d'exposition, si les caractéristiques de mise au point d'au moins un de ces dispositifs d'exposition se situent en dehors de la plage autorisée en conditions d'exposition recherchées, on fixe l'information de correction en fonction d'une référence prédéterminée basée sur les caractéristiques de mise au point (opérations 120, 124, 126). Les opérations susmentionnées 114 à 118, 120, 124 et 126 sont répétées jusqu'à ce que tous les dispositifs présentent les mêmes caractéristiques de mise au point dans la plage autorisée. Lorsque tous les dispositifs se situent dans la plage autorisée, les informations de correction établies sont prises comme informations de correction de motifs (opération 138).
(JA) 所定露光条件下における調整装置の調整情報及びこれに対応する前記投影光学系の結像性能の情報、パターンの補正情報及び結像性能の許容範囲の情報等に基づき、パターンを補正した目標露光条件下での適正調整量を、露光装置毎に算出する工程(ステップ114~118)と、算出された各露光装置の適正調整量に従う調整装置の調整の結果、目標露光条件下で、少なくとも1台の露光装置で許容範囲外となる結像性能がある場合、その結像性能に基づき、所定の基準に従って前記補正情報を設定する工程(ステップ120、124、126)と、を、全ての装置の結像性能が許容範囲内となるまで繰り返す。そして、許容範囲内となったとき、設定されている補正情報を、パターンの補正情報として決定する(ステップ138)。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)