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1. (WO2004099469) LITHOGRAPHIE ELECTROLYTIQUE HAUTE RESOLUTION, DISPOSITIF ASSOCIE ET PRODUITS OBTENUS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/099469    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/010489
Date de publication : 18.11.2004 Date de dépôt international : 06.04.2004
CIB :
C25D 5/02 (2006.01), C25D 17/12 (2006.01), C25F 3/14 (2006.01), C25F 7/00 (2006.01)
Déposants : THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF CALIFORNIA [US/US]; 1111 Franklin Street, 5th Floor, Oakland, CA 94607 (US) (Tous Sauf US).
JIN, Sungho [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : JIN, Sungho; (US)
Mandataire : BOOKS, Glen, E.; Lowenstein Sandler PC, 65 Livingston Avenue, Roseland, NJ 07068 (US)
Données relatives à la priorité :
60/461,477 09.04.2003 US
Titre (EN) HIGH RESOLUTION ELECTROLYTIC LITHOGRAPHY, APPARATUS THEREFOR AND RESULTING PRODUCTS
(FR) LITHOGRAPHIE ELECTROLYTIQUE HAUTE RESOLUTION, DISPOSITIF ASSOCIE ET PRODUITS OBTENUS
Abrégé : front page image
(EN)In accordance with the invention, a surface of a substrate is patterned by the steps of providing the substrate, covering the surface with electrolyte, and disposing at least one nanoscale electrode in the electrolyte adjacent the surface. A current is then applied between the electrode and the substrate to electrolyically deposit material on or remove material from the surface. The material is deposited or removed in a pattern dependent on the pattern, movement and shape of the nanoscale electrodes. Apparatus for this process and novel products therefrom are also described.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant de former des motifs sur la surface d'un substrat par la mise en oeuvre des étapes consistant à : prévoir un substrat ; couvrir la surface de celui-ci d'un électrolyte ; et placer au moins une électrode nanométrique dans l'électrolyte, de façon adjacente à la surface ; appliquer ensuite un courant entre l'électrode et le substrat pour déposer ou enlever électrolytiquement une matière sur/de ladite surface. La matière est déposée ou enlevée selon un motif dépendant du motif, du mouvement et de la forme des électrodes nanométriques. Un dispositif permettant de mettre en oeuvre le procédé et de nouveaux produits obtenus grâce à celui-ci sont également décrits.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)