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1. (WO2004099290) CIRE AU SILICONE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/099290    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/005905
Date de publication : 18.11.2004 Date de dépôt international : 12.05.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    07.12.2004    
CIB :
C08G 77/14 (2006.01), C08G 77/38 (2006.01), G03G 9/087 (2006.01)
Déposants : SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 6-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-0004 (JP) (Tous Sauf US).
ICHINOHE, Shoji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ICHINOHE, Shoji; (JP)
Mandataire : MATSUI, Mitsuo; Matsui & Associates, Nishishinbashi YS Bldg., 3F, 19-2, Nishishinbashi 2-chome, Minato-ku, Tokyo 105-0003 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) SILICONE WAX
(FR) CIRE AU SILICONE
(JA) シリコーンワックス
Abrégé : front page image
(EN)A silicone wax represented by the formula (I): wherein R1 is any of C1-20 alkyls, cycloalkyls, aryls, aralkyls, and fluoroalkyls; R2 is a group comprising a (di)pentaerythritol polybehenate residue represented by either of the following formulae: (CH2OCOC21H43)mC(CH2O-X-)4-m 1≤m<4 O(CH2C)2(CH2OCOC21H43)n(CH2O-X-)6-n 1≤n<6 p and q each is 0 to 200 and r and s each is 0 to 3, provided that 0≤p+q≤200 and 1≤q+r+s.
(FR)L'invention concerne une cire au silicone de formule générale (I), dans laquelle R1 est un groupe quelconque parmi C1-20 alkyles, cycloalkyles, aryles, aralkyles, et fluoroalkyles; R2 est un groupe comprenant un résidu polybéhénate de (di)pentaérythritol représenté par les formules suivantes : (CH2OCOC21H43) mC (CH2O-X-) 4-m, dans laquelle 1=m<4; et O(CH2C) 2 (CH2OCOC21H43) n (CH2O-X-) 6-n, dans laquelle 1=n<6; p et q sont compris entre 0 et 200 et r et s sont chacun compris entre 0 et 3, sous réserve que 0=p+q=200 et que 1=q+r+s.
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)