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1. WO2004099067 - PROCEDE DE PRODUCTION D'UN NANOMATERIAU ET NANOMATERIAU AINSI PRODUIT

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[ JA ]

請 求 の範囲 '

1 . 固体基材上にリソグラフィ一法により铸型を形成する工程と、形成 された鎊型上に金属酸化物薄膜または有機ノ金属酸化物複合薄膜を形成するェ 程と、形成された铸型を除去して金属酸化物ナノ構造体または有機/金属酸化 物複合ナノ構造体を形成する工程とを有するナノ材料の製造方法。

2 . 固体基材上にリソグラフィ一法により鎵型を形成する工程と、形成 された鎳型上に高分子薄膜を形成する工程と、形成された高分子薄膜上に金属 酸化物薄膜または有機/金属酸化物複合薄膜を形成する工程と、 ·形成された高 分子薄膜または铸型および高分子薄膜を除去して金属酸化物ナノ構造体または 有機 //金属酸化物複合ナノ構造体を形成する工程とを有するナノ材料の製造方 法。 '

3 .有機/金属酸化物複合薄膜に含まれる有機化合物に対応する部分を 除去する工程を有する特許請求の範囲第 1項または第 2項に記載の製造方法。

4 . 前記固体基材または固体基材および錶型と、前記金属酸化物ナノ構 造体または有機/金属酸化物複合ナノ構造体とを分離する工程を有する特許請 求の範囲第 1項または第 2項に記載の製造方法。

5 . 前記固体基材または前記固体基材および铸型と、前記有機/金属酸 化物複合薄膜に含まれる有機化合物に対応する部分が除去された構造体とを分 離する工程を有する特許請求の範囲第 3項に記載の製造方法。

6 . 前記金属酸化物ナノ構造体、有機 Z金属酸化物複合ナノ構造体また は有機/金属酸化物複合薄膜に含まれる有機化合物に対応する部分が除去され た構造体の少なくとも一部を有機化合物層で被覆する工程を有する特許請求の 範囲第 1〜 5項のいずれか一項に記載の製造方法。

7 .前記金属酸化物薄膜または有機ノ金属酸化物複合薄膜を形成するェ 程において、下記の過程を少なくとも 1回行う特許請求の範囲第 1〜 6項のい ずれか一項に記載の製造方法。

( a ) 形成面に存在しまたは導入された水酸基または力ルポキシル基と縮合反 応し、かつ加水分解により水酸基を生成し得る基を有する金属化合物または(有 機化合物 +金属化合物)を形成面に接触させる過程

( b ) 形成面に存在する金属化合物を加水分解して金属酸化物を得る過程

8 .铸型として有機化合物からなる铸型を用いる特許請求の範囲第 1〜 7項のいずれか一項に記載の製造方法。

9 . 前記铸型、高分子薄膜およびノまたは有機/金属酸化物複合薄膜に 含まれる有機化合物の除去が、プラズマ、オゾン酸ィヒ、溶出、焼成から選ばれ る少なくとも一種の処理方法により行われる特許請求の範囲第 1〜 8項のいず れか一項に記載の製造方法。

1 0 .固体基材上に铸型および金属酸化物薄膜または有機/金属酸化物 複合薄膜がこの順に形成された構造体から铸型に対応する部分が除去された構 造を有するナノ材料。

1 1 . 固体基材上に鎳型、高分子薄膜、および金属酸化物薄膜または有 機 金属酸化物複合薄膜がこの順に形成された構造体から高分子薄膜または铸 型および高分子薄膜に対応する部分が除去された構造を有するナノ材料。

1 2 .有機ノ金属酸化物複合薄膜に含まれる有機化合物に対応する部分 が除去された構造を有する特許請求の範囲第 1 0項または第 1 1項に記載のナ ノ材料。

1 3 .固体基材が分離された構造を有する特許請求の範囲第 1 0項また は第 1 2項に記載のナノ材料。

1 4 .固体基材およぴ铸型が分離された構造を有する特許請求の範囲第 1 1項または第 1 2項に記載のナノ材料。

1 5 . 金属酸化物ナノ構造体、有機/金属酸化物複合ナノ構造体または 有機 金属酸化物複合薄膜に含まれる有機化合物に対応する部分が除去された 構造体の少なくとも一部が有機化合物層で被覆された構造を有する特許請求の 範囲第 1 3項または第 1 4項に記載のナノ材料。

1 6 . 前記錄型、高分子薄膜および/または有機/金属酸化物複合薄膜 に含まれる有機化合物に対応する部分の除去がプラズマ、オゾン酸化、溶出、 焼成からなる群から選ばれる少なくとも一種の処理により行われる特許請求の 範囲第 1 0〜1 5項のいずれか一項に記載のナノ材料。

1 7 .特許請求の範囲第 1〜 9項のいずれか一項に記載の製造方法によ り得られるナノ材料。

1 8 . 自己支持性を持つ特許請求の範囲第 1 0〜1 7項めいずれか一項 に記載のナノ材料。