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1. (WO2004099067) PROCEDE DE PRODUCTION D'UN NANOMATERIAU ET NANOMATERIAU AINSI PRODUIT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/099067    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/006489
Date de publication : 18.11.2004 Date de dépôt international : 07.05.2004
CIB :
C01G 1/02 (2006.01)
Déposants : RIKEN [JP/JP]; 2-1, Hirosawa, Wako-shi Saitama 351-0198 (JP) (Tous Sauf US).
FUJIKAWA, Shigenori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KUNITAKE, Toyoki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUJIKAWA, Shigenori; (JP).
KUNITAKE, Toyoki; (JP)
Mandataire : SIKS & CO.; Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8th Floor 8-7, Kyobashi 1-chome Chuo-ku, Tokyo 104-0031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-129347 07.05.2003 JP
2004-032280 09.02.2004 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING NANOMATERIAL AND NANOMATERIAL
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION D'UN NANOMATERIAU ET NANOMATERIAU AINSI PRODUIT
(JA) ナノ材料の製造方法およびナノ材料
Abrégé : front page image
(EN)A method for producing a metal oxide nanostructure or an organic/metal oxide composite nanostructure is disclosed wherein a mold is formed on a solid base by a lithography method, a metal oxide thin film or an organic/metal oxide composite thin film is formed on the mold, and then the mold is removed. With this method, three-dimensional nanostructures can be mass-produced at low cost.
(FR)L'invention concerne un procédé destiné à la production d'une nanostructure d'oxyde métallique ou d'une nanostructure composite organique/oxyde métallique. Ce procédé consiste à former un moule sur une base solide par procédé lithographique, à former une couche mince à base d'oxyde métallique ou d'un composite organique/oxyde métallique sur le moule, puis à retirer le moule. Ce procédé permet de produire en série et à faible coût des nanostructure tridimensionnelles.
(JA) 固体基材上にリソグラフィー法により鋳型を形成し、その鋳型上に金属酸化物薄膜または有機/金属酸化物複合薄膜を形成した後に鋳型を除去することにより、金属酸化物ナノ構造体または有機/金属酸化物複合ナノ構造体を製造する方法を開示する。この方法によれば、3次元ナノ構造体を安価に量産することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)