WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2004098848) PROCEDE DE PURIFICATION DE PARTICULES DE CARBURE DE SILICIUM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/098848    N° de la demande internationale :    PCT/NO2004/000094
Date de publication : 18.11.2004 Date de dépôt international : 01.04.2004
CIB :
B07B 9/02 (2006.01), B24B 55/12 (2006.01), B28D 5/00 (2006.01)
Déposants : SINTEF [NO/NO]; Richard Birkelands vei 2b, N-7465 Trondheim (NO) (Tous Sauf US).
RAANESS, Ola, Schiefloe [NO/NO]; (NO) (US Seulement).
CHMELAR, Juraj [SK/NO]; (NO) (US Seulement)
Inventeurs : RAANESS, Ola, Schiefloe; (NO).
CHMELAR, Juraj; (NO)
Mandataire : CURO AS; Box 38, N-7231 Lundamo (NO)
Données relatives à la priorité :
20031821 23.04.2003 NO
Titre (EN) METHOD FOR CLEANING SIC PARTICLES
(FR) PROCEDE DE PURIFICATION DE PARTICULES DE CARBURE DE SILICIUM
Abrégé : front page image
(EN)Method for cleaning of silicon carbide particles from fine grain particles adhering to said silicon carbide particles, typically in the form of agglomerates of metal particles, subsequent to production (cutting) of silicon wafers and after removal of any present solute or dispersing agent from the particles. The particles (1) of contaminated silicon carbide are firstly exposed to a mechanical treatment in a first step (2) of cleaning in a per se known classifying apparatus where a first coarse fraction (3) of particles, agglomerates, larger than the original silicon carbide particles, are separated out and treated in a process (4) where the agglomerates are broken down to individual grains, without crushing said individual grains, and thereafter recycled (5) to said first step (2) of cleaning. A first fine fraction (6) is discharged from said first step (2) and transferred to a second step (7) of cleaning conducted in a per se known classifying apparatus from which the particles of silicon carbide are discharged in the form of a second coarse fraction (8), while the contaminants separated out in said second step of cleaning, are discharged in the form of a second fine fraction (9).
(FR)L'invention concerne un procédé de purification de particules de carbure de silicium permettant de supprimer les particules à granulométrie fine qui adhèrent auxdites particules de carbure de silicium, généralement sous forme d'agglomérats de particules métalliques, suite à la production (coupe) de tranches de silicium, et après le retrait de tout soluté ou agent de dispersion se trouvant au contact desdites particules. Les particules de carbure de silicium contaminées (1) sont tout d'abord soumises à un traitement mécanique, au cours d'une première étape de nettoyage (2) effectuée au moyen d'un appareil de classification connu en soi dans lequel une première fraction grossière (3) de particules qui sont plus grandes que les particules de carbure de silicium de départ et qui se présentent sous forme d'agglomérats, est séparée et traitée lors d'un processus (4) au cours duquel les agglomérats sont cassés en grains individuels sans que lesdits grains individuels ne soient broyés, et le produit résultant est soumis à nouveau (5) à ladite première étape de nettoyage (2). Une première fraction fine (6) est obtenue à l'issue de cette première étape (2) et soumise à une deuxième étape de nettoyage (7) effectuée à l'aide d'un appareil de classification connu en soi à la sortie duquel les particules de carbure de silicium se présentent sous la forme d'une deuxième fraction grossière (8), et les agents contaminants, qui ont été séparés au cours de ladite deuxième étape de nettoyage, sous la forme d'une deuxième fraction fine (9).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : norvégien (NO)