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1. (WO2004098742) SYSTEME DE TRAITEMENT DE GAZ DOTE D'UN RIDEAU D'EAU POUR LA PREVENTION DE DEPOT DE SOLIDES SUR DES PAROIS INTERNES CORRESPONDANTES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/098742    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/013414
Date de publication : 18.11.2004 Date de dépôt international : 30.04.2004
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    23.11.2004    
CIB :
B01D 47/02 (2006.01), B01D 47/06 (2006.01)
Déposants : ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. [US/US]; Margaret Chappuis, 7 Commerce Drive, Danbury, CT 06810 (US) (Tous Sauf US).
TOM, Glenn [US/US]; (US) (US Seulement).
FERRON, Shawn [US/US]; (US) (US Seulement).
CONNELL, Hugh [US/US]; (US) (US Seulement).
KAARUP, Keith, Jr. [US/US]; (US) (US Seulement).
TODD, Len [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : TOM, Glenn; (US).
FERRON, Shawn; (US).
CONNELL, Hugh; (US).
KAARUP, Keith, Jr.; (US).
TODD, Len; (US)
Mandataire : MARGARET CHAPPUIS; Advanced Technology Materials, Inc., 7 Commerce Drive, Danbury, CT 06810 (US)
Données relatives à la priorité :
10/249,703 01.05.2003 US
Titre (EN) GAS PROCESSING SYSTEM COMPRISING A WATER CURTAIN FOR PREVENTING SOLIDS DEPOSITION ON INTERIOR WALLS THEREOF
(FR) SYSTEME DE TRAITEMENT DE GAZ DOTE D'UN RIDEAU D'EAU POUR LA PREVENTION DE DEPOT DE SOLIDES SUR DES PAROIS INTERNES CORRESPONDANTES
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a gas process system for treating a solids-containing and/or solids-forming gas stream, wherein said gas process system comprises a device for forming a liquid film between the gas stream to be treated and an interior wall of such gas processing system, and wherein such liquid film is spaced apart from the interior wall by a distance that is sufficient to prevent solids from passing through such liquid film to form deposition on the interior wall.
(FR)La présente invention concerne un système de traitement de gaz permettant de traiter un flux gazeux à contenu de solides et/ou à formation de solides. Ledit système de traitement de gaz comporte un dispositif de formation d'un film liquide entre le flux de gaz à traiter et une paroi interne du système de traitement de gaz. Par ailleurs, un tel film liquide est séparé de la paroi interne d'une distance suffisante pour empêcher des solides passant à travers ledit film de former un dépôt sur la paroi interne.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)