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1. (WO2004097986) COMPOSANT COMPRENANT UN MATERIAU A CHARGE D’ESPACE DESTINE A L’ABSORPTION SELECTIVE D’UN CHAMP ELECTROMAGNETIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/097986    N° de la demande internationale :    PCT/FR2004/001007
Date de publication : 11.11.2004 Date de dépôt international : 26.04.2004
CIB :
H01Q 17/00 (2006.01)
Déposants : CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS) [FR/FR]; 3, rue Michel Ange, F-75016 Paris (FR) (Tous Sauf US).
MAGLIONE, Mario [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : MAGLIONE, Mario; (FR)
Mandataire : MARTIN, Jean-Jacques; Cabinet Regimbeau, 20, rue de Chazelles, F-75847 Paris Cedex 17 (FR)
Données relatives à la priorité :
03/05163 28.04.2003 FR
Titre (EN) COMPOUND COMPRISING A MATERIAL WITH A SPATIAL CHARGE FOR SELECTIVE ABSORPTION OF AN ELECTROMAGNETIC FIELD
(FR) COMPOSANT COMPRENANT UN MATERIAU A CHARGE D’ESPACE DESTINE A L’ABSORPTION SELECTIVE D’UN CHAMP ELECTROMAGNETIQUE
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a compound for the selective absorption of an electromagnetic field having a given frequency, characterized in that it comprises a spatially charged dielectric material (10) having a dielectric susceptibility e whereby the imaginary part e' thereof is greater by 100 than the spatial charge relaxation frequency and for which the spatial charge relaxation frequency is substantially equal to the frequency of the electromagnetic field.
(FR)L'invention concerne un composant destiné à absorber de manière sélective un champ électromagnétique présentant une fréquence donnée, caractérisé en ce qu'il comprend un matériau diélectrique à charges d'espace (10) présentant une susceptibilité diélectrique ϵ dont la partie imaginaire ϵ' est supérieure à 100 à la fréquence de relaxation des charges d'espace, et pour lequel la fréquence de relaxation des charges d'espace est sensiblement égale à la fréquence du champ électromagnétique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)