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1. (WO2004097918) LIQUIDE DE GRAVURE, LIQUIDE DECAPANT ET PROCEDE DE GRAVURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/097918    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/006286
Date de publication : 11.11.2004 Date de dépôt international : 30.04.2004
CIB :
H01L 21/306 (2006.01)
Déposants : DAIKIN INDUSTRIES LTD. [JP/JP]; Umeda Center Building, 4-12, Nakazaki-Nishi 2-Chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 530-8323 (JP) (Tous Sauf US).
KAMIYA, Fumihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KEZUKA, Takehiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKAMURA, Shingo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KANEMURA, Takashi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ITANO, Mitsushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KAMIYA, Fumihiro; (JP).
KEZUKA, Takehiko; (JP).
NAKAMURA, Shingo; (JP).
KANEMURA, Takashi; (JP).
ITANO, Mitsushi; (JP)
Mandataire : SAEGUSA, Eiji; Kitahama TNK Building 1-7-1, Doshomachi, Chuo-ku Osaka-shi, Osaka 541-0045 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-126107 01.05.2003 JP
Titre (EN) ETCHING LIQUID, REMOVER LIQUID AND ETCHING METHOD
(FR) LIQUIDE DE GRAVURE, LIQUIDE DECAPANT ET PROCEDE DE GRAVURE
(JA) エッチング液、剥離液およびエッチング方法
Abrégé : front page image
(EN)An etching liquid and a remover liquid for removing a resist and an organic antireflective film and/or a buried organic material are disclosed which contain at least one organic acid.
(FR)L'invention concerne un liquide de gravure et un liquide décapant pour enlever une réserve et un film organique antireflet et/ou un matériau organique enfoui, qui contiennent au moins un acide organique.
(JA)本発明は、少なくとも1種の有機酸を含む、レジストと有機系反射防止膜、および/または有機系埋め込み材を除去するためのエッチング液および剥離液に関する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)