Traitement en cours

Veuillez attendre...

PATENTSCOPE sera indisponible durant quelques heures pour des raisons de maintenance le samedi 31.10.2020 à 7:00 AM CET
Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. WO2004097525 - COMPOSITION DE PHOTORESIST

Numéro de publication WO/2004/097525
Date de publication 11.11.2004
N° de la demande internationale PCT/JP2004/005410
Date du dépôt international 15.04.2004
CIB
C07C 43/12 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
CCOMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
43Ethers; Composés comportant des groupes , des groupes ou des groupes
02Ethers
03toutes les liaisons sur l'oxygène de la fonction éther étant sur des atomes de carbone acycliques
04Ethers saturés
12contenant des atomes d'halogène
C07C 43/162 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
CCOMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
43Ethers; Composés comportant des groupes , des groupes ou des groupes
02Ethers
03toutes les liaisons sur l'oxygène de la fonction éther étant sur des atomes de carbone acycliques
14Ethers non saturés
162contenant des cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
C07C 43/174 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
CCOMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
43Ethers; Composés comportant des groupes , des groupes ou des groupes
02Ethers
03toutes les liaisons sur l'oxygène de la fonction éther étant sur des atomes de carbone acycliques
14Ethers non saturés
17contenant des atomes d'halogène
174contenant des cycles aromatiques à six chaînons
C07C 69/96 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
CCOMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
69Esters d'acides carboxyliques; Esters de l'acide carbonique ou de l'acide formique halogéné
96Esters de l'acide carbonique ou de l'acide formique halogéné
G03F 7/004 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
G03F 7/039 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
039Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
CPC
C07C 2601/14
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
2601Systems containing only non-condensed rings
12with a six-membered ring
14The ring being saturated
C07C 2602/42
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
2602Systems containing two condensed rings
36the rings having more than two atoms in common
42the bicyclo ring system containing seven carbon atoms
C07C 43/126
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
43Ethers; Compounds having groups, groups or groups
02Ethers
03having all ether-oxygen atoms bound to acyclic carbon atoms
04Saturated ethers
12containing halogen
126having more than one ether bond
C07C 43/162
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
43Ethers; Compounds having groups, groups or groups
02Ethers
03having all ether-oxygen atoms bound to acyclic carbon atoms
14Unsaturated ethers
162containing rings other than six-membered aromatic rings
C07C 43/1747
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
43Ethers; Compounds having groups, groups or groups
02Ethers
03having all ether-oxygen atoms bound to acyclic carbon atoms
14Unsaturated ethers
17containing halogen
174containing six-membered aromatic rings
1747containing six membered aromatic rings and other rings
C07C 69/96
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
69Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
96Esters of carbonic or haloformic acids
Déposants
  • TOKYO OHKA KOGYO CO. LTD. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 緒方 寿幸 OGATA, Toshiyuki [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 遠藤 浩太朗 ENDO, Kotaro [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 辻 裕光 TSUJI, Hiromitsu [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 吉田 正昭 YOSHIDA, Masaaki [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 佐藤 充 SATO, Mitsuru [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 松丸 省吾 MATSUMARU, Syogo [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 羽田 英夫 HADA, Hideo [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • 緒方 寿幸 OGATA, Toshiyuki
  • 遠藤 浩太朗 ENDO, Kotaro
  • 辻 裕光 TSUJI, Hiromitsu
  • 吉田 正昭 YOSHIDA, Masaaki
  • 佐藤 充 SATO, Mitsuru
  • 松丸 省吾 MATSUMARU, Syogo
  • 羽田 英夫 HADA, Hideo
Mandataires
  • 酒井 宏明 SAKAI, Hiroaki
Données relatives à la priorité
2003-12431928.04.2003JP
2003-39113920.11.2003JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) PHOTORESIST COMPOSITION AND, USED IN THE PHOTORESIST COMPOSITION, LOW-MOLECULAR COMPOUND AND HIGH-MOLECULAR COMPOUND
(FR) COMPOSITION DE PHOTORESIST
(JA) ホトレジスト組成物、該ホトレジスト組成物用低分子化合物および高分子化合物
Abrégé
(EN)
A high-molecular compound or/and low-molecular compound having an alkali-soluble site (i) whose at least part is protected by a halogenated acetal-type acid-dissociable dissolution inhibiting group (ii); and a photoresist composition comprising the same. The photoresist composition is one of high storage stability which after exposure, realizes a resist pattern of excellent section rectangularity exhibiting high transparency with respect to radiation, especially rays of 300 nm or less wavelength.
(FR)
L'invention concerne une composé hautement moléculaire ou/et un composé faiblement moléculaire ayant un site soluble dans les alcalis (i) dont au moins une partie est protégée par un groupe d'inhibition de la dissolution, dissociable dans un acide, du type acétal halogéné (ii) ; et une composition de photorésist comprenant ce composé. La composition de photorésist est une composition d'une haute stabilité au stockage et qui, après exposition, réalise un modèle de résist d'une excellente rectangularité de section présentant une haute transparence au rayonnement, en particulier, à un rayonnement de longueur d'onde égale ou inférieure à 300 nm.
(JA)
アルカリ可溶性部位(i)を有し、このアルカリ可溶性部位(i)の少なくとも一部がハロゲン原子含有アセタール系酸解離性溶解抑止基(ii)で保護されている高分子化合物または/および低分子化合物、並びにそれ含むホトレジスト組成物。露光光、特に300nm以下の波長光に対する透明性が高く、かつ断面矩形状の良好なレジストパターンを得ることができ、保存安定性の高いホトレジスト組成物とすることができる。
Également publié en tant que
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international