WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2004097521) PROCEDE DE VERIFICATION DE CORRECTION D'EFFET DE PROXIMITE OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/097521    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/005523
Date de publication : 11.11.2004 Date de dépôt international : 30.04.2003
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : FUJITSU LIMITED [JP/JP]; 1-1, Kamikodanaka 4-chome, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 211-8588 (JP) (Tous Sauf US).
OKADA, Tomoyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MINEMURA, Masahiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAKURAI, Mitsuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TSUJIMURA, Ryo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OKADA, Tomoyuki; (JP).
MINEMURA, Masahiko; (JP).
SAKURAI, Mitsuo; (JP).
TSUJIMURA, Ryo; (JP)
Mandataire : ITOH, Tadahiko; 32nd Floor, Yebisu Garden Place Tower, 20-3, Ebisu 4-chome, Shibuya-ku, Tokyo 150-6032 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION VERIFICATION METHOD
(FR) PROCEDE DE VERIFICATION DE CORRECTION D'EFFET DE PROXIMITE OPTIQUE
(JA) 光近接効果補正処理検証方法
Abrégé : front page image
(EN)An optical proximity effect correction verification method includes a step of generating first mask pattern data from design data by a first condition, a step of optical proximity effect correction of the first mask pattern data to generate first corrected pattern data, a step of generating second mask pattern data from design data by a second condition, a step of optical proximity effect correction of the second mask pattern data to generate second corrected pattern data, and a step of comparing the first corrected pattern data to the second corrected pattern data so as to judge whether the both data coincide.
(FR)Cette invention se rapporte à un procédé de vérification de correction d'effet de proximité optique, qui consiste : à produire des premières données de structure de masque à partir de données de conception sur la base d'une première condition, à corriger l'effet de proximité optique des premières données de structure de masque, afin de produire des premières données de structure corrigées, à produire des secondes données de structure de masque à partir des données de conception sur la base d'une seconde condition, à corriger l'effet de proximité optique de ces secondes données de structure de masque, afin de produire des secondes données de structure corrigées, et à comparer les premières données de structure corrigées avec les secondes données de structure corrigées, pour permettre de déterminer par évaluation si les deux types de données coïncident.
(JA)光近接効果補正処理検証方法は、設計データから第1の条件で第1のマスクパターンデータを生成し、第1のマスクパターンデータを光近接効果補正処理して第1の補正パターンデータを生成し、設計データから第2の条件で第2のマスクパターンデータを生成し、第2のマスクパターンデータを光近接効果補正処理して第2の補正パターンデータを生成し、第1の補正パターンデータと第2の補正パターンデータとを比較して両データが一致するか否かを判断する各段階を含む。
États désignés : JP, US.
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)