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1. (WO2004097080) CREUSET EN VERRE DE QUARTZ SERVANT A ETIRER UN CRISTAL DE SILICIUM UNIQUE ET PROCEDE DE FABRICATION CORRESPONDANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/097080    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/006020
Date de publication : 11.11.2004 Date de dépôt international : 26.04.2004
CIB :
C03B 19/09 (2006.01), C30B 15/00 (2006.01), C30B 15/10 (2006.01)
Déposants : SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. [JP/JP]; 22-2, Nishi-Shinjuku 1-chome Shinjuku-ku, Tokyo 160-0023 (JP) (Tous Sauf US).
OHAMA, Yasuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OHAMA, Yasuo; (JP)
Mandataire : HATTORI, Heihachi; 9, Yotsuya 4-chome Shinjuku-ku, Tokyo 160-0004 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-126490 01.05.2003 JP
2003-141702 20.05.2003 JP
Titre (EN) QUARTZ GLASS CRUCIBLE FOR PULLING UP SILICON SINGLE CRYSTAL AND METHOD FOR MANUFACTURE THEREOF
(FR) CREUSET EN VERRE DE QUARTZ SERVANT A ETIRER UN CRISTAL DE SILICIUM UNIQUE ET PROCEDE DE FABRICATION CORRESPONDANT
(JA) シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボ及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A quartz glass crucible which has a non-transparent outer layer formed through melting a natural silica powder and a transparent layer formed in the inside of the outer layer, wherein the transparent layer comprises a natural quartz layer having a thickness of 0.4 to 5.0 mm and a transparent layer comprising a synthetic quarts glass is formed thereon in the inside of the crucible in the range of 0.15 to 0.55L relative to L, which is the distance from the center of the bottom of the inner surface of the quartz glass crucible to the upper end thereof along the inner surface thereof. The quartz glass crucible can be suitably used for suppressing the occurrence of vibration and reducing the generation of roughened face in the surface of a crucible, and thus for pulling up a silicon single crystal with enhanced stability.
(FR)Un creuset en verre de quartz comprend une couche externe non transparente formée par la fusion d'une poudre de silice naturelle et une couche transparente formée à l'intérieur de la couche externe, la couche transparente comprenant une couche de quartz naturelle dont l'épaisseur est comprise entre 0,4 et 5,0 mm et une couche transparente comprenant un verre de quartz synthétique. Elle est formée à l'intérieur du creuset dans une gamme entre 0,15 et 0,55 L par rapport à L, qui est la distance depuis le centre du fond de la surface interne du creuset en verre de quartz jusqu'à son extrémité supérieure le long de sa surface. Le creuset en verre de quartz peut être utilisé de manière appropriée pour supprimer les vibrations et réduire la rugosité de la surface du creuset et, partant, pour étirer un cristal de silicium unique avec une meilleure stabilité.
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)