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1. (WO2004096678) DISPOSITIF POUR TRANSPORTER UN SUBSTRAT PLAT DANS UNE CHAMBRE A VIDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/096678    N° de la demande internationale :    PCT/EP2004/002333
Date de publication : 11.11.2004 Date de dépôt international : 08.03.2004
CIB :
B65G 49/06 (2006.01)
Déposants : APPLIED FILMS GMBH & CO. KG [DE/DE]; Siemensstrasse 100, 63775 Alzenau (DE) (Tous Sauf US).
BANGERT, Stefan [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
FUCHS, Frank [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SCHÜSSLER, Uwe [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
LINDENBERG, Ralph [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
STOLLEY, Tobias [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : BANGERT, Stefan; (DE).
FUCHS, Frank; (DE).
SCHÜSSLER, Uwe; (DE).
LINDENBERG, Ralph; (DE).
STOLLEY, Tobias; (DE)
Mandataire : SCHICKEDANZ, Willi; Langener Strasse 68, 63073 Offenbach (DE)
Données relatives à la priorité :
103 19 379.0 30.04.2003 DE
Titre (DE) VORRICHTUNG ZUM TRANSPORTIEREN EINES FLACHEN SUBSTRATS IN EINER VAKUUMKAMMER
(EN) DEVICE FOR TRANSPORTING A FLAT SUBSTRATE IN A VACUUM CHAMBER
(FR) DISPOSITIF POUR TRANSPORTER UN SUBSTRAT PLAT DANS UNE CHAMBRE A VIDE
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Transportieren eines flachen Substrats durch eine Beschichtungsanlage. Diese Beschichtungsanlage weist z. B. mehrere und unterschiedliche Sputterkathoden auf, zu denen das flache Substrat, beispielsweise eine Glasscheibe, nacheinander im Vakuum transportiert wird. Damit kein Abrieb zwischen Glasscheibe und Auflage entsteht, wird die Glasscheibe mittels Gasdruck von der Auflage fern gehalten. Der Gasdruck wird hierbei durch relativ wenige und kleine Löcher in einem Gaskanal aufgebaut. Da beim Fluten der Beschichtungsanlage auf Atmosphärendruck oder bei der Evakuierung wegen der kleinen Löcher kein schneller Druckausgleich zwischen Gaskanal und der übrigen Beschichtungsanlage möglich ist, wird der Gaskanal von der übrigen Beschichtungsanlage gasmässig entkoppelt und mit einer separaten Gasleitung versehen, über die Gas in den Gaskanal eingegeben oder aus dieser herausgepumpt werden kann.
(EN)The invention relates to a device for transporting a flat substrate through a coating plant consisting, for example of a plurality of different sputtering cathodes to which flat substrates, for example glass plates, are successively transported in vacuum. The aim of said invention is to avoid abrasion between said glass plates and a support. For this purpose, a glass plate is distanced from the support by a compressed gas coming through relatively few-numbered and small-sized orifices arranged in a gas channel. As far as small sizes of said orifices prevent any rapid pressure compensation between the gas channel and the rest of said coating plant when it is at atmospheric pressure on in vacuum, said gas channel is separated from the rest of the plant and provided with an individual gas pipe which makes it possible to introduce into the gas channel or pumped out therefrom.
(FR)L'invention concerne un dispositif pour transporter un substrat plat à travers une installation d'enduction qui présente par exemple une pluralité de cathodes de pulvérisation différentes, auxquelles les substrats plats, par exemple des plaques de verre, sont acheminés successivement sous vide. L'objectif de l'invention est d'éviter l'abrasion entre la plaque de verre et le support. A cet effet, la plaque de verre est maintenue à distance du support au moyen d'un gaz comprimé qui sort à travers des orifices relativement peu nombreux et de faible dimension, situés dans un canal à gaz. Etant donnée qu'en raison de la faible dimension des orifices, aucune compensation rapide de pression n'est possible entre le canal à gaz et le reste de l'installation d'enduction lorsque cette dernière est mise à la pression atmosphérique ou lors de sa mise sous vide, le canal à gaz est désaccouplé du reste de l'installation d'enduction et il est pourvu d'une conduite de gaz séparée par intermédiaire de laquelle le gaz peut être introduit dans le canal à gaz ou évacué de ce dernier par pompage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)