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1. (WO2004096423) SYSTEME DE COMMANDE POUR PROCESSUS CATALYTIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/096423    N° de la demande internationale :    PCT/US2003/035145
Date de publication : 11.11.2004 Date de dépôt international : 04.11.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    24.11.2004    
CIB :
F01N 3/00 (2006.01), F01N 3/10 (2006.01), C07C 1/00 (2006.01), C01B 3/00 (2006.01), B23H 3/02 (2006.01), B23H 7/14 (2006.01), C25B 9/00 (2006.01), C25B 1/00 (2006.01), C25B 15/02 (2006.01), C25B 3/00 (2006.01), C25B 1/02 (2006.01)
Déposants : CATELECTRIC CORP. [US/US]; 61, Marquardt Lane, Groton, CT 06340 (US)
Inventeurs : STANCOVSKI, Victor; (US).
SEETHARAMAN, Sridhar; (US)
Mandataire : McALLISTER, Douglas, M.; Lipsitz & McAllister, LLC, 755 Main Street, Building No. 8, Monroe, CT 06468 (US)
Données relatives à la priorité :
10/423,376 25.04.2003 US
Titre (EN) CONTROL SYSTEM FOR CATALYTIC PROCESSES
(FR) SYSTEME DE COMMANDE POUR PROCESSUS CATALYTIQUES
Abrégé : front page image
(EN)A control system for a catalytic process include: a) an electroconductive support having a layer of a catalyst thereon; b) a device for applying DC current of one polarity to the catalytic layer and the opposite polarity to the electroconductive support; c) a device for controlling DC current; d) a device for measuring the polarization impedance across the catalyst layer and the electroconductive support; e) a device for comparing the measured polarization impedance with a reference value; and f) a device for varying the DC current to the catalyst layer and the electroconductive support when the measured polarization impedance differs from the reference value. The control system may further optionally include: g) a device for heating the electroconductive support; h) a device for controlling and varying the application of heat; and i) a device for varying the application of heat to the catalyst and the electroconductive support when the measured polarization impedance differs from the reference value. Also disclosed is a process wherein the catalyst is contacted with a stream of light hydrocarbon fuel or combustion exhaust.
(FR)L'invention concerne un système de commande pour un processus catalytique. Le système de commande selon l'invention comprend : a) un support électroconducteur sur lequel est placée une couche d'un catalyseur ; b) un moyen permettant d'appliquer un courant continu d'une polarité sur la couche de catalyseur et d'une polarité opposée sur le support électroconducteur ; c) un moyen permettant de commander et de faire varier l'application de courant continu ; d) un moyen permettant de mesurer l'impédance de polarisation à travers la couche de catalyseur et le support électroconducteur ; e) un moyen permettant de comparer l'impédance de polarisation mesurée à une valeur de référence ; et f) un moyen permettant de faire varier l'application de courant continu sur la couche de catalyseur et le support électroconducteur lorsque l'impédance de polarisation mesurée diffère de la valeur de référence. Le système de commande peut aussi comprendre éventuellement : g) un moyen permettant de chauffer le support électroconducteur ; h) un moyen permettant de commander et de faire varier l'application de chaleur ; et i) un moyen permettant de faire varier l'application de chaleur sur le catalyseur et le support électroconducteur lorsque l'impédance de polarisation mesurée diffère de la valeur de référence. L'invention a également trait à un procédé consistant à mettre le catalyseur du système de commande en contact avec un flux de débit d'hydrocarbures légers ou d'émissions de combustion.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)