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1. (WO2004095661) DISPOSITIF LASER A 2 ETAGES POUR EXPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/095661    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/005490
Date de publication : 04.11.2004 Date de dépôt international : 16.04.2004
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : KOMATSU LTD. [JP/JP]; 3-6, Akasaka 2-chome Minato-Ku, Tokyo 1078414 (JP) (Tous Sauf US).
GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 6-1, Otemachi 2-chome Chiyoda-Ku, Tokyo 1000004 (JP) (Tous Sauf US).
WAKABAYASHI, Osamu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ARIGA, Tatsuya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KUMAZAKI, Takahito [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SASANO, Kotaro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : WAKABAYASHI, Osamu; (JP).
ARIGA, Tatsuya; (JP).
KUMAZAKI, Takahito; (JP).
SASANO, Kotaro; (JP)
Mandataire : NIRASAWA, Hiroshi; AZUSA PATENT OFFICE Ueno-Suzuki Bldg. 7th Floor 16-3, Ueno 3-chome Taito-Ku, Tokyo 1100005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-116924 22.04.2003 JP
2003-298286 22.08.2003 JP
Titre (EN) 2-STAGE LASER DEVICE FOR EXPOSURE
(FR) DISPOSITIF LASER A 2 ETAGES POUR EXPOSITION
(JA) 露光用2ステ-ジレ-ザ装置
Abrégé : front page image
(EN)There is provided a 2-stage laser device appropriately used for a semiconductor exposure device having a high stability , a high output efficiency, and a narrow line width of the MOPO method and a low spatial coherence. The 2-stage laser device for exposure includes an oscillation stage laser (50) and an amplification stage laser (60). The oscillation stage laser (50) oscillates a laser beam having divergence. The amplification stage laser (60) includes a Fabry-Perot etalon resonator consisting of an input side mirror (1) and an output side mirror (2) and the resonator constitutes a stable resonator.
(FR)La présente invention concerne un dispositif laser à 2 étages pouvant être utilisé de manière adéquate dans un dispositif d'exposition à semiconducteur possédant une stabilité élevée, un rendement élevé, une largeur de ligne étroite selon le procédé MOPO, et une faible cohérence spatiale. Le dispositif laser à 2 étages pour exposition précité comprend un laser d'étage d'oscillation (50) et un laser d'étage d'amplification (60). Le laser d'étage d'oscillation (50) fait osciller un faisceau laser possédant une divergence. Le laser d'étage d'amplification (60) comprend un résonateur étalon Fabry-Perot composé d'un miroir de côté entrée (1) et d'un miroir de côté sortie (2), qui constitue un résonateur stable.
(JA)本発明は、MOPO方式の高安定性、高出力効率、細い線幅である利点を活かしつつ、空間コヒ−レンスを低くした半導体露光装置用に適した2ステ−ジレ−ザ装置に関するものであり、発振段レ−ザ(50)と増幅段レ−ザ(60)とからなる露光用2ステ−ジレ−ザ装置であって、発振段レ−ザ(50)として発振レ−ザ光に発散を有するものが用いられ、増幅段レ−ザ(60)は入力側ミラ−(1)と出力側ミラ−(2)とからなるファブリペロ−エタロン型共振器を備え、その共振器は安定共振器を構成している。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)