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1. WO2004095568 - DISPOSITIF CONÇU POUR APPLIQUER UN TRAITEMENT A SEMI-CONDUCTEUR A UN SUBSTRAT A TRAITER

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[ JA ]

請 求 の 範 囲

1 . 被処理基板に対して半導体処理を施す装置であって、 前記被処理基板を収容する処理容器と、

前記処理容器内に処理ガスを供給するための給気系と、 前記処理容器内に配設された載置台と、 m記載 は m 記被処理基板を載置する上面と前記処理容 内に露出する下 面と を有することと、

前記載置台の前記上面に対する前記被処理基板の受け渡し を補助するための昇降機構と、

を具備し、 前記昇降機構は、

前記被処理基板を支持する リフタピンと、

前記リフタピンを昇降させる駆動部と、

前記リ フタピンの昇降動作を案内するガィ 孔と、 刖記ガ ィ ド孔は、前記載置台を貫通して前記上面か ら刖記下面に延 びる主孔部分と、 前記主孔部分に対応 して刖記載鼠 P の刖己 下面から下方へ突出する延長ス リーブ内に延ぴる延長孔部分 とを具備することと、

を具備する。

2 . 請求の範囲 1 に記載の装置において、

前記ガイ ド孔の前記延長孔部分の長さは 刖記ガイ ド、孔の 前記主孔部分の長さの半分よ りも大きい。

3 . 請求の範囲 1 に記載の装置において、

前記延長孔部分が補助管内に形成される よ Ό に u記載置 台の前記下面に前記捕助管の上端が取り 付け られ 、育 'J記補助 管が全体と して前記延長スリープを形成する。

4 . 請求の範囲 1 に記載の装置において、

記主孔部分及ぴ前記延長孔部分が 1 つの補助管内に形成 される ように、前記载置台を上下に貫通する貫通孔内に刖記 捕助管が挿入され、 前記載置台の前記下面か ら下方へ突出す る 記補助管の部分が前記延長ス リーブを形成する。

5 . 請求の範囲 4 に記載の装置において、

記補助管の上端部に配設され且つ前記載置台と係合する フラ ンジと、前記載置台の前記下面に当接する と共に J記捕 助管の外面に係合する固定部材と を更に具備 し 刖記フラン ジと前記固定部材と の協働によ り、前記捕助管が前記載置台 に対して固定される。

6 . 請求の範囲 1 に記載の装置において、

刖記駆動部は前記 リフタピンを第 1 及び第 2状態間で昇降 しヽ前記第 1 状態において、前記リフタピンは、前記被処理 基板の受け渡しを補助するために前記載置台の前記上面上に 突出 し、前記第 2状態において、前記リフタピンは、前記半 導体処理を行う ために前記載置台の前記上面下に退避する こ ととヽ

記第 2状態において、 前記リフタピンが前記ガイド孔の 内面と接触する下側接触点は、 前記延長ス リ一ブの下端部よ り 上に位置する ことと、

を具備する。

7 . 請求の範囲 6 に記載の装置において、

ゾ,記リフタピンは、上軸部と前記上軸部より小径の下軸部 とを有し、前記上軸部の下端部が前記下側接触点を形成する

8 · f 求の範囲 1 に記載の装置において、

m記下軸部は、 下方に向けて漸次縮径するテーパ形状を有 する。

9 . 請求の範囲 1 に記載の装置において、

記ガィ ド孔の 記延長孔部分の内面は下方に向けて漸次 拡径する

1 0 . 請求の範囲 1 に記載の装置において、

前記駆動部は前記リ フタピンを第 1 及び第 2状態間で昇降 し 、 刖記第 1 状態において、前記リフタピンは 、前記被処理 基板の受け渡しを捕助するために前記載置台の BU記上面上に 突出 し、 ftu記第 2状態において、前記リフタピンは、前記半 導体処理を行う ために刖記載置 の刖記上面下に退避する こ とと、

m言己ジフタピンの外面に環状凹部が形成され 、 前記リフタ ピンの前 5己 2状態において、 前記環状凹部は 、 前記延長ス

V ーブの下端部よりも上に位置することと、

を具備す O

1 丄■き口求の範囲 1 に記載の装置において、

前記駆動部は前記リ フタピンを第 1 及び第 2状態間で昇降 し 、 m B己第 1 状態において、前記リフタピンは 、前記被処理 基板の受け渡しを補助するために前記載置台の前記上面上に 突出 し、 記第 2状態において、 前記リフタピンは、前記半 導体処理を行 うために刖 载置 "の刖記上面下に退避する こ とと、

fu記リフタピンの外面に長手方向溝部が形成され、 前記リ

フタピンの前記第 2状態において、 前記長手方向溝部は、 前 記延長ス リーブの下端部よりも上に位置することと、 を具備する。

1 2 · 請求の範囲 4 に記載の装置において、

前記補助管の内面に長手方向溝部が形成される。

請求の範囲 1 に記載の装置において、

リフタピンの下端部は、前記駆動部の駆動面に対 して 能に当接する。

請求の範囲 1 に記載の装置において、

載置台を支持する支柱を更に具備し、 前記載置台は前 を介して前記処理容器に支持される。

請求の範囲 1 4 に記載の装置において、

前記処理容器は、 前記載置台の前記下面の下方に、 前記載 置台よ りも平面輪郭が小さく且つ前記支柱を包囲するように 形成された排気側空間を具備 し、前記排気空間に前記処理容 器内を真空排気するための排気系が接続される。