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1. (WO2004095549) DISPOSITIF ET PROCEDE DE TRACE DE MOTIFS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/095549    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/005134
Date de publication : 04.11.2004 Date de dépôt international : 09.04.2004
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : BALL SEMICONDUCTOR INC. [US/US]; 415 Century Parkway Allen, Texas 75013 (US) (Tous Sauf US).
OHMI, Tadahiro [JP/JP]; (JP).
SUGAWA, Shigetoshi [JP/JP]; (US Seulement).
YANAGIDA, Kimio [JP/JP]; (US Seulement).
TAKEHISA, Kiwamu [JP/JP]; (US Seulement)
Inventeurs : OHMI, Tadahiro; (JP).
SUGAWA, Shigetoshi; .
YANAGIDA, Kimio; .
TAKEHISA, Kiwamu;
Mandataire : GOTO, Yosuke; The Third Mori Building, 4-10, Nishishinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-107776 11.04.2003 JP
2003-148362 26.05.2003 JP
2003-353433 14.10.2003 JP
2003-363460 23.10.2003 JP
Titre (EN) PATTERN PLOTTING DEVICE AND PATTERN PLOTTING METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCEDE DE TRACE DE MOTIFS
(JA) パターン描画装置及びパターン描画方法
Abrégé : front page image
(EN)There is provided a pattern plotting method for potting a pattern on a substrate by using a projection pattern output from a mirror device having fine mirrors arranged in the 2-dimensional way. Each of the fine mirrors is controlled to turn ON and OFF and the projection pattern from the mirror device is partially overlapped at least in the 1-dimensional direction for exposure, thereby accurately controlling the exposure of intermediate light intensity.
(FR)L'invention concerne un procédé pour tracer des motifs sur un substrat au moyen d'un signal de sortie de motifs de projection provenant d'un dispositif à miroirs pourvu de miroirs fins agencés de manière bidimensionnelle. La mise en marche et l'arrêt de chacun des miroirs fins sont régulés et le motif de projection provenant du dispositif à miroirs est partiellement recouvert au moins dans une direction unidimensionnelle pour l'exposition, ce qui permet ainsi de réguler de manière précise l'exposition à une lumière d'intensité intermédiaire.
(JA)二次元的に配列された微小ミラーを含むミラーデバイスから出力された投影パターンを使用して、基板上にパターンを描画するパターン描画方法において、各微小ミラーをオンオフ制御すると共に、ミラーデバイスからの投影パターンを少なくとも一次元方向に部分的にオーバーラップさせて露光を行うことにより、中間光量露光を正確に制御することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)