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1. (WO2004095529) PROCEDE ET APPAREIL POUR REDUIRE LE DEPOT DE MATIERE SUR LE COTE ARRIERE D'UN SUBSTRAT PENDANT UN TRAITEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/095529    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/006076
Date de publication : 04.11.2004 Date de dépôt international : 17.03.2004
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; TBS Broadcast Center, 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 107-8481 (JP) (Tous Sauf US).
HATAMURA, Yasunori [JP/US]; (US) (US Seulement).
HINATA, Kunihko [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HATAMURA, Yasunori; (US).
HINATA, Kunihko; (JP)
Mandataire : MAIER, Gregory, J.; Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C., 1940 Duke Street, Alexandria, VI 22314 (US)
Données relatives à la priorité :
60/456,229 21.03.2003 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR REDUCING SUBSTRATE BACKSIDE DEPOSITION DURING PROCESSING
(FR) PROCEDE ET APPAREIL POUR REDUIRE LE DEPOT DE MATIERE SUR LE COTE ARRIERE D'UN SUBSTRAT PENDANT UN TRAITEMENT
Abrégé : front page image
(EN)A focus ring (60) configured to be coupled to a substrate holder (10) comprises a focus ring (60) and a secondary focus ring (56) coupled to the focus ring (60), wherein the secondary focus ring (56) is configured to reduce the deposition of process residue on a backside surface of the substrate (35).
(FR)Selon l'invention, un ensemble bague de focalisation configuré de façon à être couplé à un porte-substrat comprend une bague de focalisation et une bague de focalisation secondaire accouplée à cette dernière. La bague de focalisation secondaire est configurée de façon à réduire le dépôt de résidu de processus sur une surface du côté arrière du substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)