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1. (WO2004095137) SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/095137    N° de la demande internationale :    PCT/EP2003/004245
Date de publication : 04.11.2004 Date de dépôt international : 24.04.2003
CIB :
G02B 17/06 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 22, 73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
FEHR, Jean-Noel [CH/CH]; (CH) (US Seulement).
MANN, Hans-Jürgen [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
ZELLNER, Johannes [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : FEHR, Jean-Noel; (CH).
MANN, Hans-Jürgen; (DE).
ZELLNER, Johannes; (DE)
Mandataire : OSTERTAG, Ulrich; Eibenweg 10, 70597 Stuttgart (DE)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) PROJECTION OPTICAL SYSTEM
(FR) SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION
Abrégé : front page image
(EN)A projection exposure apparatus for transferring an image of a patterned reticle onto a substrate comprises an illu­mination optical system for generating and directing an ex­posure beam onto the reticle, and a projection optical sys­tem provided between the reticle and the substrate. The projection optical system has a plurality of imaging mir­rors each having a mirror support made of a support mate­rial. The support materials are subject to thermal expan­sion during projection that induces imaging aberrations at substrate level. The support materials are selected such that an aberration merit function, which is indicative of the overall amount of at least one type of the thermally induced aberrations, is minimized by mutual compensation of contributions of the mirrors to the one type of thermally induced aberrations. As a result, the mirror supports will then generally be different and have, when heated during exposure, different coefficients of thermal expansion.
(FR)La présente invention a trait à un appareil d'exposition de projection pour le transfert d'une image d'un réticule à motifs sur un substrat comportant un système optique d'éclairage pour la génération et l'orientation d'un faisceau d'exposition sur le réticule, et un système optique de projection prévu entre le réticule et le substrat. Le système de projection optique comporte un ensemble de miroirs de formation d'images comprenant chacun un support de miroir réalisé en un matériau de support. Les matériaux de support sont sujets à la dilatation thermique lors de la projection qui induit des aberrations d'imagerie au niveau du substrat. Les matériaux de support sont choisis de sorte qu'une fonction de coefficient d'aberration, qui est indicatif de la quantité globale d'au moins un type des aberrations d'origine thermique, est minimisée par compensation mutuelle des contributions des miroirs au dit un type des aberrations d'origine thermique. Par conséquent, les supports de miroirs vont, de manière générale, être différents et vont avoir, lors de leur réchauffement pendant l'exposition, différents coefficients de dilatation thermique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)