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1. (WO2004095110) REGULATION D'EXPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/095110    N° de la demande internationale :    PCT/EP2003/004283
Date de publication : 04.11.2004 Date de dépôt international : 24.04.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    31.10.2003    
CIB :
G02B 26/08 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. [DE/DE]; Hansastrasse 27c, 80686 München (DE) (Tous Sauf US).
MICRONIC LASER SYSTEMS AB [SE/SE]; P.O. Box 3141, S-183 03 Täby (SE) (Tous Sauf US).
DÜRR, Peter [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SANDSTRÖM, Torbjörn [SE/SE]; (SE) (US Seulement)
Inventeurs : DÜRR, Peter; (DE).
SANDSTRÖM, Torbjörn; (SE)
Mandataire : ZIMMERMANN, Tankred; Schoppe, Zimmermann, Stöckeler & Zinkler, Postfach 246, 82043 Pullach bei München (DE).
ZINKLER, Franz; Schoppe, Zimmermann, Stöckeler & Zinkler, Postfach 246, 82043 Pullach bei München (DE)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) EXPOSURE CONTROL
(FR) REGULATION D'EXPOSITION
Abrégé : front page image
(EN)A method and an apparatus for controlling exposure of a surface of a substrate in a process of structuring the substrate with light of a predetermined intensity are described, wherein the light is directed to the surface by means of a deflectable mirror. The intensity has a first maximum (50) at a first deflection of the deflectable mirror, a first minimum (52) at a second deflection of the deflectable mirror, a second maximum (54) at a third deflection of the deflectable mirror, and a second minimum (56) at a fourth deflection of the deflectable mirror. A signal representing the predetermined intensity, and a signal representing a threshold intensity are received, the threshold intensity being equal to or less than the intensity of the second maximum (54). It is determined whether the predetermined intensity is greater than the threshold intensity. The deflection of the deflectable mirror is controlled to be between the first deflection and the second deflection when the predetermined intensity is greater than the threshold intensity, and to be equal to or greater than the third deflection when the predetermined intensity is equal to or less than the threshold intensity.
(FR)L'invention concerne un procédé et un dispositif destinés à réguler l'exposition d'une surface d'un substrat, dans une opération de structuration du substrat, à une lumière d'une intensité prédéterminée, cette lumière étant dirigée vers la surface au moyen d'un miroir orientable. L'intensité présente une première valeur maximale (50) à une première orientation du miroir, une première valeur minimale (52) à une deuxième orientation du miroir orientable, une seconde valeur maximale (54) à une troisième orientation du miroir orientable, et une seconde valeur minimale (56) à une quatrième orientation du miroir orientable. Un signal représentant l'intensité prédéterminée et un signal représentant une intensité seuil sont reçus, l'intensité seuil étant égale ou inférieure à l'intensité de la seconde valeur maximale (54). On détermine si l'intensité prédéterminée est supérieure à l'intensité seuil. L'orientation du miroir orientable est régulée à un niveau situé entre la première orientation et la seconde orientation lorsque l'intensité prédéterminée est supérieure à l'intensité seuil, et à un niveau égal ou supérieur à la troisième orientation lorsque l'intensité prédéterminée est égale ou inférieure à l'intensité seuil.
États désignés : JP, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)