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1. (WO2004094702) SYSTEME DE GALVANISATION A CHIMIE MULTIPLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/094702    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/012012
Date de publication : 04.11.2004 Date de dépôt international : 16.04.2004
CIB :
C25D 7/12 (2006.01), C25D 19/00 (2006.01), C25D 17/02 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue, Santa Clara, CA 95054 (US) (Tous Sauf US).
YANG, Michael, X. [US/US]; (US) (US Seulement).
XI, Ming [CN/US]; (US) (US Seulement).
ELLWANGER, Russell, C. [US/US]; (US) (US Seulement).
BRITCHER, Eric, B. [US/US]; (US) (US Seulement).
DONOSO, Bernardo [US/US]; (US) (US Seulement).
PANG, Lily, L. [US/US]; (US) (US Seulement).
SHERMAN, Svetlana [US/US]; (US) (US Seulement).
HO, Henry [US/US]; (US) (US Seulement).
NGUYEN, Anh, N. [US/US]; (US) (US Seulement).
LERNER, Alexander, N. [US/US]; (US) (US Seulement).
D'AMBRA, Allen, L. [US/US]; (US) (US Seulement).
SHANMUGASUNDRAM, Arulkumar [IN/US]; (US) (US Seulement).
ISHIKAWA, Tetsuya [JP/US]; (US) (US Seulement).
RABINOVICH, Yevgeniy [US/US]; (US) (US Seulement).
LUBOMIRSKY, Dmitry [IL/US]; (US) (US Seulement).
MOK, Yeuk-Fai, Edwin [US/US]; (US) (US Seulement).
NGUYEN, Son, T. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : YANG, Michael, X.; (US).
XI, Ming; (US).
ELLWANGER, Russell, C.; (US).
BRITCHER, Eric, B.; (US).
DONOSO, Bernardo; (US).
PANG, Lily, L.; (US).
SHERMAN, Svetlana; (US).
HO, Henry; (US).
NGUYEN, Anh, N.; (US).
LERNER, Alexander, N.; (US).
D'AMBRA, Allen, L.; (US).
SHANMUGASUNDRAM, Arulkumar; (US).
ISHIKAWA, Tetsuya; (US).
RABINOVICH, Yevgeniy; (US).
LUBOMIRSKY, Dmitry; (US).
MOK, Yeuk-Fai, Edwin; (US).
NGUYEN, Son, T.; (US)
Mandataire : PATTERSON, B., Todd; Moser, Patterson & Sheridan, LLP, 3040 Post Oak Blvd., Suite 1500, Houston, TX 77056 (US)
Données relatives à la priorité :
60/463,860 18.04.2003 US
60/463,970 18.04.2003 US
60/463,861 18.04.2003 US
60/463,956 18.04.2003 US
60/463,862 18.04.2003 US
Titre (EN) MULTI-CHEMISTRY PLATING SYSTEM
(FR) SYSTEME DE GALVANISATION A CHIMIE MULTIPLE
Abrégé : front page image
(EN)Embodiments of the invention generally provide an electrochemical plating system. The plating system includes a substrate loading station positioned in communication with a mainframe processing platform, at least one substrate plating cell positioned on the mainframe, at least one substrate bevel cleaning cell positioned on the mainframe, and a stacked substrate annealing station positioned in communication with at least one of the mainframe and the loading station, each chamber in the stacked substrate annealing station having a heating plate, a cooling plate, and a substrate transfer robot therein.
(FR)Dans divers modes de réalisation, l'invention se rapporte de manière générale à un système de galvanisation électrochimique. Ce système de galvanisation comporte une station de chargement de substrat positionnée en communication avec une plate-forme de traitement à châssis principal, au moins une cellule de galvanisation de substrat positionnée sur le châssis principal, au moins une cellule de nettoyage du biseau des substrats positionnée sur le châssis principal, et une station de recuit des substrats empilés positionnée en communication soit avec le châssis principal soit avec la station de chargement, chaque chambre de la station de recuit de substrats empilés contenant une plaque chauffante, une plaque refroidissante et un robot de transfert de substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)