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1. (WO2004094689) COMPLEXES DE CUIVRE (I) VOLATILS PERMETTANT LE DEPOT DE FILMS DE CUIVRE PAR DEPOT DE COUCHES ATOMIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/094689    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/011734
Date de publication : 04.11.2004 Date de dépôt international : 16.04.2004
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    11.11.2004    
CIB :
C07F 1/08 (2006.01), C23C 16/18 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01)
Déposants : E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY [US/US]; 1007 Market Street, Wilmington, DE 19898 (US) (Tous Sauf US).
BRADLEY, Alexander, Zak [US/US]; (US) (US Seulement).
THOMPSON, Jeffery, Scott [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : BRADLEY, Alexander, Zak; (US).
THOMPSON, Jeffery, Scott; (US)
Mandataire : SIEGELL, Barbara, C.; Legal Patent Records Center, 4417 Lancaster Pike, Wilmington, DE 19805 (US)
Données relatives à la priorité :
60/463,170 16.04.2003 US
Titre (EN) VOLATILE COPPER(I) COMPLEXES FOR DEPOSITION OF COPPER FILMS BY ATOMIC LAYER DEPOSITION
(FR) COMPLEXES DE CUIVRE (I) VOLATILS PERMETTANT LE DEPOT DE FILMS DE CUIVRE PAR DEPOT DE COUCHES ATOMIQUES
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to novel 1,3-diimine copper complexes and the use of 1,3-diimine copper complexes for the deposition of copper on substrates or in or on porous solids in an Atomic Layer Deposition process.
(FR)La présente invention concerne de nouveaux complexes de cuivre 1,3-diimine, et l'utilisation des complexes de cuivre 1,3-diimine dans le dépôt de cuivre sur des substrats ou dans ou sur des solides poreux au cours d'un processus de dépôt de couches atomiques.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)