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1. (WO2004094311) LIQUIDE DE REVETEMENT POUR LA FORMATION DE SILICE POREUSE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/094311    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/006041
Date de publication : 04.11.2004 Date de dépôt international : 26.04.2004
CIB :
C09D 183/04 (2006.01), H01L 21/316 (2006.01)
Déposants : MITSUI CHEMICALS, INC. [JP/JP]; 5-2, Higashi-Shimbashi 1-chome Minato-ku, Tokyo 105-7117 (JP) (Tous Sauf US).
OIKE, Shunsuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOMURA, Kazuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MURAKAMI, Masami [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KUBOTA, Takeshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OIKE, Shunsuke; (JP).
KOMURA, Kazuo; (JP).
MURAKAMI, Masami; (JP).
KUBOTA, Takeshi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-120339 24.04.2003 JP
Titre (EN) COATING LIQUID FOR FORMING POROUS SILICA
(FR) LIQUIDE DE REVETEMENT POUR LA FORMATION DE SILICE POREUSE
(JA) 多孔質シリカ形成用塗布液
Abrégé : front page image
(EN)A coating liquid for forming porous silica is characterized by preferably containing a partial hydrolysis-condensation product of an alkoxysilane compound, a surfactant and an organic ampholyte, and by having a metal content of not more than 50 ppb. Conventional coating liquids for forming porous silica have such a problem that porous silica films formed therefrom may have poor regularity in micropore alignment when the shelf-life periods of the coating liquids are long. On the contrary, the coating liquid for forming porous silica of the present invention is excellent in shelf life stability. Namely, the quality of a porous silica formed therefrom is hardly affected by the length of shelf-life period of the coating liquid. Consequently, the coating liquid enables to stably produce porous silica films which cause no shift in capacitance or voltage when exposed to an electric field, have regularly aligned uniform micropores, and are preferably used as optically functional material or electronically functional material.
(FR)La présente invention a trait à un liquide de revêtement pour la formation de silice poreuse caractérisé en ce qu'il contient de préférence un produit d'hydrolyse/condensation partielle d'un composé alcoxysilane, un tensioactif et un ampholyte organique, et en ce qu'il présente une teneur métallique inférieure à 50 parties par milliard. Les liquides de revêtement classiques pour la formation de silice poreuse présentent un problème en ce que la silice poreuse formée à partir d'eux peuvent présenter une faible uniformité dans l'alignement des micropores lors de longues périodes de stockage des liquides de revêtement. A l'opposé, le liquide de revêtement pour la formation de silice poreuse de la présente invention présente une excellente stabilité de stockage. Notamment, la qualité d'une silice poreuse formée à partir de celui-ci ne subit presque aucune altération due à la longueur de la période de stockage du liquide de revêtement. Par conséquent, le liquide de revêtement permet la production stable de films de silice poreuse qui ne provoquent aucun décalage dans la capacité ou la tension lors de leur exposition à un champ électrique, présentent des micropores d'alignement uniforme, et sont de préférence utilisés en tant que matériau à fonctionnalité optique ou matériau à fonctionnalité électronique.
(JA)本発明に係る多孔質シリカ形成用塗布液は、好ましくはアルコキシシラン化合物の部分的な加水分解縮合物と、界面活性剤と、有機両性電解質とを含有してなり、かつ金属含有量が50ppb以下であることを特徴とする。従来の多孔質シリカ形成用塗布液は、保存期間が長くなると、得られる多孔質シリカフィルムの細孔の配列規則性等が低くなる事があった。これに対し、本発明に係る多孔質シリカ形成用塗布液によれば、保存安定性に優れる塗布液を提供することができる。すなわち、得られる多孔質シリカの品質が、上記塗布液の保存期間の影響を受け難い。このため、電場にさらされても、容量、電圧シフトを引き起こすことがなく、さらに規則的に配列した均一な細孔を有し、光機能材料や電子機能材料に好適に用いることができる多孔質シリカフィルムの安定生産に貢献できると期待される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)