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1. (WO2004064127) APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCEDE D'EXPOSITION, PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ET PROCEDE DE MESURE ET INSTRUMENT DE MESURE ASSOCIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/064127    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/004234
Date de publication : 29.07.2004 Date de dépôt international : 02.04.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    26.07.2004    
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP) (Tous Sauf US).
MOTEGI, Kiyoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MOTEGI, Kiyoshi; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO., Karakida Center Bldg., 1-53-9, Karakida, Tama-shi, Tokyo 206-0035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-001648 08.01.2003 JP
Titre (EN) EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD, DEVICE FABRICATING METHOD, AND MEASUREMENT METHOD AND MEASUREMENT INSTRUMENT
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCEDE D'EXPOSITION, PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ET PROCEDE DE MESURE ET INSTRUMENT DE MESURE ASSOCIE
(JA) 露光装置及び露光方法、デバイス製造方法、並びに測定方法及び測定装置
Abrégé : front page image
(EN)A laser beam (LB) emitted from a laser oscillator (16a) is received by a laser optical characteristic measurement instrument (16c, 16e) to measure an optical characteristic thereof and to output information on the optical characteristic. A main controller controls the amount of integrated energy of a laser beam applied to a wafer according to the information during exposure. As a result, the exposure of the wafer can be adjusted depending on the optical characteristic of the laser beam.
(FR)Un faisceau laser (LB) émis par un oscillateur laser (16a) est reçu par un instrument de mesure de caractéristique optique laser (16c, 16e) conçu pour mesurer une caractéristique optique et pour délivrer en sortie une information relative à ladite caractéristique optique. Une unité de commande principale régule la quantité d'énergie intégrée d'un faisceau laser appliquée à une plaquette, conformément à cette information, pendant l'exposition. En conséquence, l'exposition de la plaquette peut être ajustée en fonction de la caractéristique optique du faisceau laser.
(JA) レーザ光学特性計測装置(16c、16e)により、レーザ共振器(16a)で発生したレーザ光(LB)が受光されその光学特性が計測されるとともに、該光学特性に関する情報が出力される。そして、主制御装置により、露光の際に、前記情報に基づいてウエハ上に与えられるレーザ光の積算エネルギ量(ウエハの露光量)が制御される。このため、レーザ光の光学特性に応じて、ウエハの露光量が調整される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)