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1. (WO2004063816) PROCEDE PERMETTANT DE FORMER UNE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/063816    N° de la demande internationale :    PCT/US2003/040959
Date de publication : 29.07.2004 Date de dépôt international : 19.12.2003
CIB :
B41C 1/10 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01)
Déposants : KODAK POLYCHROME GRAPHICS LLC [US/US]; 401 Merritt 7, Norwalk, CT 06851 (US)
Inventeurs : TAO, Ting; (US).
COLLINS, Jeffrey, James; (US).
JORDAN, Thomas; (US)
Mandataire : TUCKER, James, L.; Patent Counsel, Eastman Kodak Company, Patent Legal Staff, 343 State Street, Rochester, NY 14650-2201 (US)
Données relatives à la priorité :
10/336,595 03.01.2003 US
Titre (EN) METHOD FOR FORMING A LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE
(FR) PROCEDE PERMETTANT DE FORMER UNE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)Methods for forming images are disclosed. The images are formed by imaging and developing an imageable element comprising a layer of an imageable composition over a substrate. The imageable composition contains a polymeric binder, an acid activatable crosslinking agent, and an acid generator of the structure, formula (I): in which: Y is hydrogen, halo, alkyl, diphenylamino, phenylthio, or (CH2)kSO3- in which k is 1 to 4; R1, R2, R3, and R4, are each independently hydrogen or SO3- with the proviso that the anion has two to four SO3- groups; Z1 and Z2 are each independently a benzo group or a naphtho group; Z3 is two hydrogen atoms, a cyclohexene residue or a cyclopentene residue; X1 and X2 are each independently S, O, NH, CH2, or CMe2; Q is an onium cation; n is 1 to 4; and m is 1 to 3, with the proviso that m is 1 when the anion has two SO3- groups; m is 2 when the anion has three SO3- groups; and m is 3 when the anion has four SO3- groups.
(FR)L'invention concerne des procédés permettant de former des images. Les images sont formées par production d'images et développement d'un élément imprimable, lequel élément comprend une couche d'une composition imprimable par dessus un substrat. La composition imprimable contient un liant polymère, un agent de réticulation activable par de l'acide, et un générateur acide présentant la structure représentée par la formule (I): dans cette formule, Y représente hydrogène, halo, alkyle, diphénylamino, phénylthio, ou (CH2)kSO3- dans laquelle k représente un entier relatif compris entre 1 et 4; R1, R2, R3, et R4 sont, indépendamment les uns des autres, hydrogène ou SO3- pour autant que l'anion comprenne de deux à quatre groupes SO3-; Z1 et Z2 sont, indépendamment l'un de l'autre, un groupe benzo ou un groupe naphtho; Z3 représente deux atomes d'hydrogène, un résidu cyclohexène ou un résidu cyclopentène; X1 et X2 sont, indépendamment l'un de l'autre, S, O, NH, CH2, ou CMe2; Q$m(4) représente un cation onium; n représente un entier relatif compris entre 1 et 4; et m représente un entier relatif compris entre 1 et 3, pour autant que m soit égal à 1 lorsque l'anion comprend deux groupes SO3-; qu'il soit égal à 2 lorsque l'anion comprend trois groupes SO3-; et qu'il soit égal 3 lorsque l'anion comprend quatre groupes SO3-.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)