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1. (WO2004063300) COMPOSITION SILICONE POUR REVETEMENT DUR, A BASE DE SILICE COLLOIDALE, DURCISSABLE PAR VOIE CATIONIQUE, ANTIBUEE ET/OU ANTISALISSURES.
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/063300    N° de la demande internationale :    PCT/FR2003/003614
Date de publication : 29.07.2004 Date de dépôt international : 08.12.2003
CIB :
C09D 183/06 (2006.01), C09D 183/08 (2006.01), G02B 1/10 (2006.01)
Déposants : RHODIA CHIMIE [FR/FR]; 26, quai Alphonse le Gallo, F-92512 BOULOGNE-BILLANCOURT (FR) (Tous Sauf US).
DERUELLE, Martial [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
FRANCES, Jean-Marc [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
FEDER, Michel [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : DERUELLE, Martial; (FR).
FRANCES, Jean-Marc; (FR).
FEDER, Michel; (FR)
Mandataire : TROLLIET, Maurice; RHODIA SERVICES, Direction de la Propriété Industrielle, Centre de Recherches de Lyon B.P. 62, F-69192 SAINT-FONS CEDEX (FR)
Données relatives à la priorité :
0215946 16.12.2002 FR
Titre (EN) SILICONE COMPOSITION FOR ANTI-MIST AND/OR ANTI-FOULING HARD COATING, BASED ON COLLOIDAL SILICA, CURABLE BY CATIONIC PROCESS
(FR) COMPOSITION SILICONE POUR REVETEMENT DUR, A BASE DE SILICE COLLOIDALE, DURCISSABLE PAR VOIE CATIONIQUE, ANTIBUEE ET/OU ANTISALISSURES.
Abrégé : front page image
(EN)The invention concerns compositions crosslinkable by cationic process into hard coating, exhibiting moreover antifouling and/or anti-mist properties. Said composition, comprising non functionalized silica colloidal particles, further comprises: at least one crosslinkable and/or polymerisable silicone monomer, oligomer and/or polymer comprising: at least one unit of formula (I): Z1(R0)aSiO(3-a)/2, wherein: a = 0, 1 or 2; R0, identical or different when a>1, represents an alkyl, cycloalkyl, aryl, vinyl, hydrogeno, alkoxy radical, preferably a C1-C6 lower alkyl; Z1, identical or different when the number of unit of formula (I) is greater than 1, is an organic substituent comprising at least one epoxy, and/or alkenylether and/or oxetane and/or dioxolane and/or carbonate reactive function, and preferably Z1 being an organic substituent comprising an epoxy, and/or dioxolane reactive function; and a total number of silicon atoms per molecule not less than 2; and an efficient amount of at least one cationic initiator; optionally at least one organic solvent.
(FR)La présente invention concerne des compositions réticulables par voie cationique en revêtement dur, présentant par ailleurs des propriétés anti-salissures et/ou anti-buée. Cette composition, comportant des particules colloïdales de silice non fonctionnalisée, comporte en outre :- au moins un monomère, oligomère et/ou polymère silicone réticulable et/ou polymérisable comprenant : au moins un motif de formule (I): Z1(R0)aSiO(3-a)/2,dans laquelle :- a = 0, 1 ou 2,- R0 , identique ou différent lorsque a>1, représente un radical alkyle, cycloalkyle, aryle, vinyle, hydrogéno, alcoxy, de préférence un alkyle inférieur en C1-C6, - Z1, identique ou différent lorsque le nombre de motif de formule (I) est supérieur à 1, est un substituant organique comportant au moins une fonction réactive époxy, et/ou alcénylether et/ou oxétane et/ou dioxolane et/ou carbonate, et de préférence Z1 étant un substituant organique comportant au moins une fonction réactive époxy, et/ou dioxolane, et un nombre total d'atomes de silicium par molécule au moins égal à 2, et- une quantité efficace d'au moins un amorceur cationique, - éventuellement au moins un solvant organique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)