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1. (WO2004063295) DEPOT DE NANOPARTICULES PAR JET D'ENCRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/063295    N° de la demande internationale :    PCT/GB2004/000040
Date de publication : 29.07.2004 Date de dépôt international : 08.01.2004
CIB :
B29C 67/00 (2006.01), B41J 2/01 (2006.01), C09D 11/00 (2006.01), H01M 8/12 (2006.01)
Déposants : QINETIQ NANOMATERIALS LIMITED [GB/GB]; Registered Office, 85 Buckingham Gate, London SW1E 6PD (GB) (Tous Sauf US).
WALKER, Laura, Diane [GB/GB]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : WALKER, Laura, Diane; (GB)
Mandataire : JOHNSON, Ian, Michael; QinetiQ Limited, Intellectual Property, Cody Technology Park, Ively Road, Farnborough, Hants GU14 0LX (GB)
Données relatives à la priorité :
0300529.5 10.01.2003 GB
Titre (EN) INK JET DEPOSITION OF NANOPARTICLES
(FR) DEPOT DE NANOPARTICULES PAR JET D'ENCRE
Abrégé : front page image
(EN)An ink jet deposition technique utilises an ink formulation containing nano-sized material. The nano-sized material or loading is formulated to have an average particle size of less than one micron. The loading may comprise a metal powder, a metal salt, a metal oxide or a ceramic material. The ink formulation is particularly suitable in the deposition of complex small scale three dimensional structures.
(FR)Une technique de dépôt par jet d'encre utilise une formulation d'encre contenant une matière de grosseur nanométrique. La matière ou la charge de grosseur nanométrique est formulée pour avoir une grosseur particulière moyenne inférieure à 1 micron. La charge peut comprendre une poudre métallique, un sel métal, un oxyde métallique ou une matière céramique. La formulation d'encre est particulièrement adaptée au dépôt de structures tridimensionnelles complexes de petite échelle.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)