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1. (WO2004063235) PROCEDE DE PRODUCTION DE FLUOROPOLYMERES DE RESIST
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/063235    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/000031
Date de publication : 29.07.2004 Date de dépôt international : 07.01.2004
CIB :
C08F 214/18 (2006.01)
Déposants : DAIKIN INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; Umeda Center Bldg., 4-12, Nakazaki-Nishi 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308323 (JP) (Tous Sauf US).
ARAKI, Takayuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ISHIKAWA, Takuji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TORIUMI, Minoru [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ARAKI, Takayuki; (JP).
ISHIKAWA, Takuji; (JP).
TORIUMI, Minoru; (JP)
Mandataire : ASAHINA, Sohta; NS Building, 2-22, Tanimachi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400012 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-007683 15.01.2003 JP
Titre (EN) PROCESS FOR THE PRODUCTION OF RESIST FLUOROPOLYMER
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE FLUOROPOLYMERES DE RESIST
(JA) レジスト用含フッ素重合体の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The invention provides a novel process for producing fluoropolymers, specifically, a process for producing photoresist fluoropolymers which are transparent to vacuum ultraviolet rays, particularly, F2 laser (157nm), and excellent in solubility in alkaline developers; and photoresist compositions containing the photoresist fluoropolymers. The process is a process for producing a resist fluoropolymer excellent in solubility in developers which comprises repeating units (M2)of alicyclic structure in the backbone chain and has in the polymer either acid-reactive groups (Y1) or groups (Y2) convertible into acid-reactive groups (Y1), characterized by radical-polymerizing a monomer mixture containing a monomer (m2) capable of imparting alicyclic structure to the backbone chain in the presence of both a radical polymerization initiator and a chain transfer agent represented by the general formula (1): R - (X)n (1) wherein R is a C1-20 hydrocarbon group optionally containing an ether linkage in which part of the hydrogen atoms may be replaced by fluorine; X is at least one functional group selected from the group consisting of oxygen-containing functional groups and substituted and unsubstituted amino groups; and n is an integer of 1 to 4.
(FR)L'invention concerne un procédé de production de fluoropolymères, et précisément de production de fluoropolymères de résist transparents aux UV extrêmes, en particulier au laser F2 (157 nm), avec une excellente solubilité dans les développeurs alcalins. L'invention concerne des compositions de photorésist contenant ces fluoropolymères. Il s'agit de produire un fluoropolymère de résist à excellente solubilité dans les développeurs, qui comprend des unités de répétition (M2) de structure alicyclique dans la chaîne du squelette. Le polymère comprend des groupes réagissant aux acides (Y1) ou des groupes (Y2) convertibles en groupes réagissant aux acides (Y1). On effectue une polymérisation radicalaire de mélanges de monomères contenant un monomère (m2) capable de conférer une structure alicyclique à la chaîne considérée, en présence d'un initiateur de polymérisation radicalaire et d'un agent de transfert de chaîne de formule générale (1), R (X)n. R est un groupe hydrocarbure C1-20 contenant éventuellement un lien dans lequel une partie des atomes d'hydrogène peuvent être remplacés par fluor. X est au moins un groupe fonctionnel pouvant être groupe fonctionnel à oxygène ou groupe amino substitué et non substitué. Enfin, n est un entier compris entre 1 et 4.
(JA) 含フッ素重合体の新規な製造方法、さらには真空紫外領域、特にF2レーザー(157nm)光において透明でかつアルカリ現像液に対する溶解性に優れたフォトレジスト用の含フッ素重合体の製造方法および該フォトレジスト用含フッ素重合体を含むフォトレジスト組成物を提供する。該製造方法は、重合体主鎖に脂肪族環構造の繰り返し単位(M2)を有する含フッ素重合体であって、かつ重合体中に酸で反応する酸反応性基Yまたは酸反応性基Yに変換可能な基Yを有するレジスト用含フッ素重合体を得るに当たり、該重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得る単量体(m2)を含む単量体混合物をラジカル重合開始剤の存在下、式(1):   R−(X)     (1)(式中、Rは炭素数1~20のエーテル結合を含んでいても良い炭化水素基から選ばれるものであって、水素原子の一部がフッ素原子で置換されていても良い炭化水素基;Xは酸素原子含有の官能基および置換または非置換アミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基;nは1~4の整数)で示される連鎖移動剤を共存させてラジカル重合することを特徴とする現像液への溶解性に優れたレジスト用含フッ素重合体の製造方法である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)