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1. WO2004061927 - PROCEDE ET APPAREIL DE SURVEILLANCE D'UN SYSTEME DE TRAITEMENT DE MATERIAU

Numéro de publication WO/2004/061927
Date de publication 22.07.2004
N° de la demande internationale PCT/US2003/039652
Date du dépôt international 31.12.2003
CIB
H01L 21/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
CPC
H01L 21/67253
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
67253Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
Déposants
  • TOKYO ELECTRON LIMITED [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • KLEKOTKA, James, E. [US]/[US] (UsOnly)
Inventeurs
  • KLEKOTKA, James, E.
Mandataires
  • CASEY, Michael, R.
Données relatives à la priorité
10/331,33231.12.2002US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHOD AND APPARATUS FOR MONITORING A MATERIAL PROCESSING SYSTEM
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DE SURVEILLANCE D'UN SYSTEME DE TRAITEMENT DE MATERIAU
Abrégé
(EN)
The present invention presents an improved apparatus and method for monitoring a material processing system, wherein the material processing system includes a processing tool, a number of RF-responsive electrical sensors coupled to the processing tool to generate and transmit electrical data, and a sensor interface assembly (SIA) configured to receive the electrical data from the plurality of RF-responsive electrical sensors.
(FR)
L'invention concerne un appareil amélioré et un procédé permettant de surveiller un système de traitement de matériau. Ledit système de traitement de matériau comprend: un outil de traitement; un certain nombre de capteurs électriques sensibles à la radiofréquence, couplés audit outil de traitement afin de générer et de transmettre des données électriques; et un ensemble interface capteur (SIA) conçu pour recevoir les données électriques provenant de la pluralité de capteurs de traitement sensibles à la radiofréquence.
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