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1. (WO2004061894) SUPPORT A MI-PORTEE POUR RESEAU MAGNETIQUE D'UN DISPOSITIF DE PULVERISATION A MAGNETRON CYLINDRIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/061894    N° de la demande internationale :    PCT/EP2004/000045
Date de publication : 22.07.2004 Date de dépôt international : 07.01.2004
CIB :
C23C 14/32 (2006.01), H01J 37/34 (2006.01)
Déposants : VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH [DE/DE]; Plattleite 19/29, 01324 Dresden (DE) (Tous Sauf US).
BARRETT, Richard, Lowe [US/US]; (US) (US Seulement).
GREENE, Philip, A. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : BARRETT, Richard, Lowe; (US).
GREENE, Philip, A.; (US)
Mandataire : ADLER, Peter; Patentanwälte Lippert, Stachow, Schmidt & Partner, Krenkelstrasse 3, 01309 Dresden (DE)
Données relatives à la priorité :
10/338,190 07.01.2003 US
Titre (EN) MID SPAN SUPPORT FOR A MAGNETIC ARRAY OF A CYLINDRICAL MAGNETRON SPUTTER DEVICE
(FR) SUPPORT A MI-PORTEE POUR RESEAU MAGNETIQUE D'UN DISPOSITIF DE PULVERISATION A MAGNETRON CYLINDRIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A support assembly for the magnetic array in a cylindrical magnetron that greatly reduces the stress placed on the assembly and on the end blocks of the magnetron. The support assembly and method also reduce the time necessary for properly positioning the magnetic array in relation to the target tube, and result in uniform positioning of the magnetic array along the length of the target tube. A cylindrical magnetron incorporating such an assembly produces uniform coatings and requires less adjustment and maintenance.
(FR)La présente invention concerne un système de support destiné à un réseau magnétique dans un magnétron cylindrique, qui permet une forte réduction des contraintes qui s'exercent sur le système et sur les blocs d'extrémité du magnétron. Le système de support et le procédé permettent également de réduire le temps nécessaire au bon positionnement du réseau magnétique par rapport au tube cible, et permettent l'obtention d'un positionnement uniforme du réseau magnétique sur la longueur du tube cible. Un magnétron cylindrique comprenant un système de ce type permet de produire des revêtements uniformes et nécessite moins de réglages et d'entretien.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)