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1. (WO2004061488) ELEMENT OPTIQUE RESISTANT AUX RAYONNEMENTS A FAIBLE DENSITE D'ENERGIE ET A HAUTE ENERGIE UTILISE AVEC DES DISPOSITIF MICROELECTROMECANIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/061488    N° de la demande internationale :    PCT/SE2003/002025
Date de publication : 22.07.2004 Date de dépôt international : 19.12.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    22.07.2004    
CIB :
B81B 3/00 (2006.01)
Déposants : MICRONIC LASER SYSTEMS AB [SE/SE]; IPR & Legal Department, Nytorpsvägen 9, S-183 03 Täby (SE).
FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. [DE/DE]; Hansastrasse 27c, 80686 Munich (DE)
Inventeurs : SANDSTRÖM, Torbjörn; (SE).
GREBINSKI, Thomas, J; (US).
DAUDERSTEDT, Ulrike; (DE).
LJUNGBLAD, Ulric; (SE).
KUNATH, Christian; (DE).
EBERHARD, Kurth; (DE)
Mandataire : MICRONIC LASER SYSTEMS AB; IPR & Legal Department, Nytorpsvägen 9, S-183 03 Täby (SE)
Données relatives à la priorité :
10/335,981 01.01.2003 US
Titre (EN) HIGH ENERGY, LOW ENERGY DENSITY, RADIATION-RESISTANT OPTICS USED WITH MICRO-ELECTROMEHANICAL DEVICES
(FR) ELEMENT OPTIQUE RESISTANT AUX RAYONNEMENTS A FAIBLE DENSITE D'ENERGIE ET A HAUTE ENERGIE UTILISE AVEC DES DISPOSITIF MICROELECTROMECANIQUES
Abrégé : front page image
(EN)The present invention includes methods and devices that improve the radiation-resistance of a movable micromechanical optical element. In particular, a radiation-resistant layer is added to a movable micro-mechanical optical element, suitable to reduce the surface and bulk material changes to the element that result from exposure to pulsed laser energy less than 100 micro-joules per square centimeter and at wavelengths less than or equal to about 248 nm.
(FR)Cette invention concerne des procédés et des dispositifs permettant d'améliorer la résistance aux rayonnements d'un élément optique micromécanique mobile. Le procédé de cette invention consiste en particulier à ajouter une couche résistante aux rayonnements sur un élément optique micromécanique mobile, ce qui permet de réduire les variations des propriétés matérielles volumiques et de surface de l'élément résultant d'une exposition à des densités d'énergie laser par impulsion inférieures à 100 microjoules par centimètre carré et à des longueurs d'ondes inférieures ou égales à environ 248 nm.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)