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1. (WO2004061428) EQUIPEMENT POUR MESURER LA DISTRIBUTION DE LA TAILLE DES VIDES OU DES PARTICULES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/061428    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/016918
Date de publication : 22.07.2004 Date de dépôt international : 26.12.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    12.04.2004    
CIB :
G01N 15/08 (2006.01), G01N 15/14 (2006.01), G01N 23/203 (2006.01)
Déposants : TECHNOS INSTITUTE CO., LTD. [JP/JP]; 32-1, Nagaotanimachi 1-chome, Hirakata-shi, Osaka 573-0164 (JP) (Tous Sauf US).
TERADA, Shinichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TERADA, Shinichi; (JP)
Mandataire : SAIKYO, Keiichiro; Shikishima Building, 2-6, Bingomachi 3-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 541-0051 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-382423 27.12.2002 JP
Titre (EN) EQUIPMENT FOR MEASURING DISTRIBUTION OF VOID OR PARTICLE SIZE
(FR) EQUIPEMENT POUR MESURER LA DISTRIBUTION DE LA TAILLE DES VIDES OU DES PARTICULES
(JA) 空孔または粒子サイズ分布測定装置
Abrégé : front page image
(EN)Equipment for measuring distribution of void or particle size capable of measuring the size of a void or a particle in a short time with high accuracy. When the size of a void Y existing in a porous insulator film (3) or the size of a particle in a thin film is measured, a sample (5) having the insulator film (3) formed on the surface of a substrate (4) is irradiated, from the surface side thereof, with X-rays R at a specified incident angle &thetas;i larger than the total reflection critical angle of the insulator film (3) but not exceeding 1.3 times the total reflection critical angle of the substrate (4). X-rays beamed into the insulator film (3) and reflected off the surface of the substrate (4) and not entering the void Y but exiting the insulator film (3) are a scattering component and such a scattering component as having a larger exit angle as compared with that when the reflecting component does not enter the void Y but exits the insulator film (3) is detected.
(FR)La présente invention concerne un équipement pour mesurer la distribution de la taille des vides ou des particules, capable de mesurer la taille d'un vide ou d'une particule en un temps très court, avec une haute précision. Pour mesurer la taille d'un vide (Y) existant dans un film isolant poreux (3) ou la taille d'une particule dans un film mince, on prend un échantillon (5) constitué d'un substrat (4) à la surface duquel se trouve le film isolant (3), et on le soumet depuis sa surface à un rayonnement aux rayons X (r) selon un angle d'incidence $g(u)i supérieur à l'angle critique de réflexion totale du film isolant (3) sans toutefois dépasser de 1,3 fois l'angle critique de réflexion totale du substrat (4). Les rayons X envoyés sur le film isolant (3) et renvoyés par la surface du substrat (4) sans entrer dans le vide (Y) mais ressortant du film isolant (3) sont une composante de dispersion. En l'occurrence, la détection porte sur une telle composante de dispersion dont l'angle de sortie est supérieur à ce qui se produit lorsque la composante se réfléchissant ne pénètre pas dans le vide (Y) mais sort du film isolant (3).
(JA) 本発明の目的は、空孔または粒子のサイズを短時間で高精度に測定することができる空孔または粒子サイズ分布測定装置を提供することである。多孔質性の絶縁体膜3内に存在する空孔Yのサイズ、または薄膜中の粒子のサイズを測定する際に、絶縁体膜3を基板4の表面に形成して成る試料5に対して、入射角度が絶縁体膜3の全反射臨界角度より大きく、かつ基板4の全反射臨界角度の1.3倍を超えない所定の入射角度θiで、X線Rを絶縁体膜3表面側から照射する。照射されたX線のうち、絶縁体膜3に入射して基板4の表面で反射された反射成分が空孔Yに入射せずに絶縁体膜3から出射した散乱成分であって、前記反射成分が空孔Yに入射せずに絶縁体膜3から出射したときの出射成分よりも出射角度が大きい散乱成分を検出する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)