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1. (WO2004060817) PROCEDE DE PASTEURISATION A BASSE TEMPERATURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2004/060817 N° de la demande internationale : PCT/JP2004/000001
Date de publication : 22.07.2004 Date de dépôt international : 05.01.2004
CIB :
A23L 3/358 (2006.01) ,A61L 2/18 (2006.01) ,C02F 1/30 (2006.01) ,C02F 1/72 (2006.01)
Déposants : YAMADA, Mitsuo[JP/JP]; JP (UsOnly)
LEE, Chang il[JP/JP]; JP (UsOnly)
NAKAMURA, Hiroyasu[JP/JP]; JP (UsOnly)
YAMADA EVIDENCE RESEARCH CO, LTD.[JP/JP]; 2-3-301, Yonegahamadouri Yokosuka-shi, Kanagawa 2380011, JP (AllExceptUS)
Inventeurs : YAMADA, Mitsuo; JP
LEE, Chang il; JP
NAKAMURA, Hiroyasu; JP
Représentant
commun :
YAMADA, Mitsuo; 1-24-12 Nobi Yokosuka-shi Kanagawa 2390841, JP
Données relatives à la priorité :
2002-38365627.12.2002JP
Titre (EN) LOW-TEMPERATURE PASTEURIZATION METHOD
(FR) PROCEDE DE PASTEURISATION A BASSE TEMPERATURE
(JA) 低温殺菌方法
Abrégé : front page image
(EN) It is intended to provide a low-temperature pasteurization method whereby microorganisms including those which can be hardly completely exterminated at a low temperature such as thermotolerant bacteria can be completely exterminated. Namely, a low-temperature pasteurization method which comprises exterminating a subject microorganism existing in water or an aqueous fluid by using hydrogen peroxide-origin radicals at a concentration ranging from 0.3 to 3.0% in the presence of visible rays at a temperature of from -20 to 10°C. The treatment is carried out at least for a period of time sufficient for attaining the action point of the hydrogen peroxide-origin radicals at a definite concentration on the microorganism to be treated. 1
(FR) La présente invention se rapporte à un procédé de pasteurisation à basse température permettant l'éradication totale de micro-organismes, et notamment de ceux qui peuvent difficilement subir une éradication totale à basse température, tels que des bactéries thermotolérantes. L'invention se rapporte précisément à un procédé de pasteurisation à basse température qui consiste à éradiquer un micro-organisme sujet existant dans l'eau ou dans un fluide aqueux au moyen de radicaux ayant pour origine du peroxyde d'hydrogène, à une concentration allant de 0,3 à 3,0 %, en présence de rayonnement visible et à une température comprise entre -20 et 10 °C. Le traitement est effectué au moins pendant un laps de temps suffisant pour atteindre le point d'activation des radicaux ayant pour origine du peroxyde d'hydrogène à une concentration définie sur le micro-organisme devant être traité..
(JA) 低温で、耐熱性細菌等の低温では完全に殺菌することが困難な微生物を含む微生物類を完全に殺菌することが可能な低温殺菌法を提供する。水または水性流体中に存在する処理対象の微生物を、可視光線の存在下で濃度を0.3~3.0%濃度範囲の過酸化水素由来のラジカルにより前記微生物を−20~10℃の温度範囲で殺菌処理する低温殺菌法であって、前記処理対象の微生物に対する所定濃度の過酸化水素由来のラジカルの作用点に到達する以上の時間処理を行う。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)