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1. (WO2004060803) POUDRE D'OXYDE DE SILICIUM HYDROPHOBE FINE HAUTEMENT DISPERSIBLE ET PROCEDE DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/060803    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/016807
Date de publication : 22.07.2004 Date de dépôt international : 25.12.2003
CIB :
C01B 33/18 (2006.01), C09C 1/30 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01)
Déposants : NIPPON AEROSIL CO., LTD. [JP/JP]; 3-1, Nishi-shinjyuku 2-chome, Shinjyuku-ku, Tokyo 163-0913 (JP) (Tous Sauf US).
ISHIBASHI, Naruyasu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAITO, Rikio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIBASAKI, Takeyoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ISHIBASHI, Naruyasu; (JP).
SAITO, Rikio; (JP).
SHIBASAKI, Takeyoshi; (JP)
Mandataire : CHIBA, Hiroshi; Chiba Kokusai Patent Office, Nihonbashi-Kyoei Bldg. 7F, 15-17, Nihonbashi-Kobunecho, Chuo-ku, Tokyo 103-0024 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-379842 27.12.2002 JP
Titre (EN) HIGHLY DISPERSIBLE, FINE, HYDROPHOBIC SILICA POWDER AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) POUDRE D'OXYDE DE SILICIUM HYDROPHOBE FINE HAUTEMENT DISPERSIBLE ET PROCEDE DE PRODUCTION
(JA) 高分散性疎水性シリカ微粉末とその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A highly dispersible, fine, hydrophobic silica powder which has a degree of hydrophobizing of 50% or higher and a frictional electrification amount of -500 µC/g or larger and in which the percentage of decomposition of the organic groups on the powder surface is 15% or lower. Preferably, a 5% alcohol dispersion of the powder has a transmittance of 40% or higher and the specific surface area of the powder is 200 m2/g or larger. The highly dispersible, fine, hydrophobic silica powder can be obtained through a hydrophobizing treatment in which a hydrophobizing agent comprising a volatile organosilicon compound is mixed in a gaseous state with fine silica particles in a fluidized bed reaction vessel and the gas flow rate during the mixing is regulated to 5.0 cm/sec or higher.
(FR)La présente invention concerne une poudre d'oxyde de silicium hydrophobe fine hautement dispersible qui présente un degré d'hydrophobie supérieur ou égal à 50 % et une quantité d'électrisation par frottement supérieure ou égale à 500 $g(m)C/g, et dans laquelle le pourcentage de décomposition des groupes organiques à la surface de la poudre est inférieur ou égal à 15 %. De préférence, une dispersion alcoolique à 5 % de la poudre précitée possède une transmittance supérieure ou égale à 40 %, et la surface spécifique de la poudre est supérieure ou égale à 200 m2/g. La poudre d'oxyde de silicium hydrophobe fine hautement dispersible de l'invention peut être obtenue par un traitement d'hydrophobisation au cours duquel un agent d'hydrophobisation comprenant un composé organosilicié volatil est mélangé à l'état gazeux avec de fines particules d'oxyde de silicium dans une cuve à réaction à lit fluidisé, la vitesse du flux gazeux au cours du mélange étant réglée à un niveau supérieur ou égal à 5,0 cm/sec.
(JA)疎水化度50%以上、摩擦帯電量-500μC/gより大きく、粉体表面の有機基の分解率15%以下であって、好ましくは5%アルコール分散液の透過率40%以上、比表面積200m2/g以上の疎水化された微細なシリカ微粉末にすることによって高分散性疎水性シリカ微粉末を得ることができ、この高分散性疎水性シリカ微粉末は、疎水化処理の際に、流動床型反応槽内で揮発性の有機珪素化合物からなる疎水化剤をガス状でシリカ微粉末と混合し、その混合時のガス流速を5.0cm/sec以上に調整することによって得ることができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)