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1. (WO2004060593) SYSTEME DE FRITTAGE CENTRIFUGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/060593    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/016742
Date de publication : 22.07.2004 Date de dépôt international : 25.12.2003
CIB :
B22F 3/00 (2006.01)
Déposants : NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY [JP/JP]; 3-1, Kasumigaseki 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8921 (JP) (Tous Sauf US).
SINTO V-CERAX, LTD [JP/JP]; 1, Honohara 3-chome, Toyokawa-shi, Aichi 442-8505 (JP) (Tous Sauf US).
WATARI, Koji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KINEMUCHI, Yoshiaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
UCHIMURA, Shoji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ISHIGURO, Hirohide [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MORIMITSU, Hideki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : WATARI, Koji; (JP).
KINEMUCHI, Yoshiaki; (JP).
UCHIMURA, Shoji; (JP).
ISHIGURO, Hirohide; (JP).
MORIMITSU, Hideki; (JP)
Mandataire : SUDO, Masahiko; Shinyo Bldg. 6F, 6-1, Nihonbashi-Muromachi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 103-0022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-382579 27.12.2002 JP
Titre (EN) CENTRIFUGAL SINTERING SYSTEM
(FR) SYSTEME DE FRITTAGE CENTRIFUGE
(JA) 遠心焼結装置
Abrégé : front page image
(EN)A centrifugal sintering system imparting a centrifugal force field and a temperature field to a molding of ceramics or metal powder or a ceramic precursor film, characterized in that a rotor for turning a sample holder, a shaft or the sample holder used in the centrifugal sintering system is composed of ceramics. The ceramic member and the rotor for turning the sample holder are composed of conductive silicon carbide ceramics and a sample is heated indirectly by self heating only the rotor selectively using an induction heating means. The ceramics member and the sample holder are composed of a material having a large dielectric loss, and the sample is heated indirectly by heating only the sample holder selectively using a dielectric heating means.
(FR)L'invention concerne un système de frittage centrifuge conférant un champ de force centrifuge et un champ de température à un moulage de poudre céramique ou métallique ou à un film précurseur en céramique, caractérisé en ce qu'un rotor entraînant en rotation un porte-échantillon, un arbre ou le porte-échantillon utilisé dans le système de frittage centrifuge est fabriqué en céramique. L'élément en céramique et le rotor entraînant le porte-échantillon en rotation sont fabriqués en céramique au carbure de silicium conducteur, et en ce qu'un échantillon est chauffé indirectement par autochauffage uniquement du rotor sélectivement, en utilisant des moyens de chauffage par induction. L'élément en céramique et le porte-échantillon sont fabriqués en un matériau à forte perte diélectrique, et l'échantillon est chauffé indirectement en chauffant uniquement le porte-échantillon sélectivement, en utilisant des moyens de chauffage diélectriques.
(JA)本発明は、遠心焼結装置のローター、シャフト又は試料ホルダーを提供するものであり、本発明は、セラミックス又は金属粉体からなる成形体、又はセラミックス前駆体膜に、遠心力場及び温度場を付加する遠心焼結装置に使用するローター、シャフト又は試料ホルダーからなる部材であって、試料ホルダーを回転させるローター、シャフト又は試料ホルダーをセラミックスで構成したことを特徴とする遠心焼結装置のセラミックス部材、上記試料ホルダーを回転させるローターを導電性炭化ケイ素セラミックスで構成し、誘導加熱手段を用いてローターだけを選択的に自己発熱させることにより試料を間接加熱するようにした上記セラミックス部材、上記試料ホルダーを誘電損失の大きい材料で構成し、誘電加熱手段を用いて試料ホルダーだけを選択的に発熱させることにより試料を間接加熱するようにした上記セラミックス部材、に関する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)