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1. (WO2004059718) PROCEDE DE PRODUCTION D'UN DISPOSITIF TRANSISTOR EN COUCHES MINCES FORME PAR IMPRESSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/059718    N° de la demande internationale :    PCT/IB2003/006039
Date de publication : 15.07.2004 Date de dépôt international : 11.12.2003
CIB :
H01L 21/336 (2006.01)
Déposants : KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. [NL/NL]; Groenewoudseweg 1, NL-5621 BA Eindhoven (NL) (Tous Sauf US).
CHAPMAN, Jeffrey, A. [GB/GB]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : CHAPMAN, Jeffrey, A.; (GB)
Mandataire : WILLIAMSON, Paul, L.; Philips Intellectual Property & Standards, Cross Oak Lane, Redhill, Surrey RH1 5HA (GB)
Données relatives à la priorité :
0230129.9 24.12.2002 GB
Titre (EN) METHOD OF FABRICATING A TFT DEVICE FORMED BY PRINTING
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION D'UN DISPOSITIF TRANSISTOR EN COUCHES MINCES FORME PAR IMPRESSION
Abrégé : front page image
(EN)A thin-film transistor for an active matrix display is fabricated using printing means, such as a gravure offset printer. First and second pattern layers (251, 252; 30) are formed on a layer structure (4) wherein at least one of the layers is printed. The printed layers (251, 252; 30) mask regions (271, 272, 28) for defining source and drain terminals. The second pattern layer (28) can be removed so as to allow etching of the second region (28) for defining a channel.
(FR)L'invention concerne un transistor en couches minces destiné à un afficheur à matrice active. Ce transistor est produit à l'aide d'un moyen d'impression, tel qu'une imprimeuse à rouleau gravé. Une première et une deuxième couche motif (251, 252; 30) sont formées sur une structure couche (4), au moins une couche étant imprimée. Les couches imprimées (251, 252; 30) masquent les zones (271, 272, 28) définissant les bornes de la source et du drain. La deuxième couche motif (28) peut être enlevée de manière à permettre la gravure de la deuxième zone (28) qui définit un canal.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)