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1. (WO2004059716) SYSTEME ET PROCEDE DE COMMANDE DE PLASMA PAR COUPLAGE REGLABLE AVEC UN CIRCUIT DE TERRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/059716    N° de la demande internationale :    PCT/US2003/039994
Date de publication : 15.07.2004 Date de dépôt international : 17.12.2003
CIB :
C23C 16/00 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; P0862PCT, 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538 (US) (Tous Sauf US).
NI, Tuqiang [US/US]; (US) (US Seulement).
COLLISON, Wenli [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : NI, Tuqiang; (US).
COLLISON, Wenli; (US)
Mandataire : NGUYEN, Joseph, A.; IPSG, PC, 10121 Miller Avenue #201, Cupertino, CA 95014 (US)
Données relatives à la priorité :
10/326,918 20.12.2002 US
Titre (EN) A SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING PLASMA WITH AN ADJUSTABLE COUPLING TO GROUND CIRCUIT
(FR) SYSTEME ET PROCEDE DE COMMANDE DE PLASMA PAR COUPLAGE REGLABLE AVEC UN CIRCUIT DE TERRE
Abrégé : front page image
(EN)A system and method for controlling plasma. The system includes a semiconductor chamber comprising a powered electrode, another electrode, and an adjustable coupling to ground circuit. The powered electrode is configured to receive a wafer or substrate. There is at least one grounded electrode configured to generate an electrical connection with the powered electrode. At least one of the grounded electrodes is electrically coupled to the adjustable coupling to ground circuit. The adjustable coupling to ground circuit is configured to modify the impedance of the grounded electrode. The ion energy of the plasma is controlled by the adjustable coupling to ground circuit.
(FR)L'invention concerne un système et un procédé de commande de plasma. Le système comprend une chambre de semi-conducteur comportant une électrode actionnée, une autre électrode, et un accouplement réglable au circuit au de terre. L'électrode actionnée est conçue pour recevoir une tranche ou un substrat. Il y a au moins une électrode à la terre conçue afin de générer un raccord électrique avec l'électrode actionnée. Au moins une des électrodes à la terre est électriquement couplée au couplage réglable du circuit à la terre. Le couplage réglable au circuit de terre est configuré pour modifier l'impédance de l'électrode à la terre. L'énergie ionique du plasma est commandée par le couplage réglable au circuit à la terre.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)